新型测量工具可提高微芯片生产

发布:cyqdesign 2023-09-14 18:15 阅读:1251
MESA+纳米技术研究所的研究人员开发了一种工具,可以同时测量等离子体源的大小和它发出的光的颜色。同时测量这两者,使我们能够进一步改进光刻机,以制造更小、更快、更先进的芯片。这篇文章在《光学快报》上作为编辑精选而受到关注。 |_xiG~  
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光刻机是几乎所有电子设备都需要的微芯片制造过程中的核心。为了生产最小的芯片,这些机器需要精密工程的透镜、镜子和光源。XUV光学集团的助理教授Muharrem Bayraktar解释说:“传统上,我们只能看到产生的光量,但为了进一步改进芯片制造过程,我们还想研究这种光的颜色和光源的大小。” r+#V{oE_  
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极紫外光是由等离子体源发射的,它是通过将激光对准金属滴而产生的。通过几组特殊的镜子,这种光被对准硅片,以创建可以想象的最小的微芯片。Bayraktar说:“我们希望使等离子体尽可能小。太大了,你就会“浪费”很多光,因为镜子不能捕捉到所有的光。” f?<M3P  
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除了大小,发射的颜色也很重要。Bayraktar说:“等离子体不仅发射极紫外光,还发射其他颜色的光。” 有了这个新工具,研究人员可以同时观察大小和颜色。这使得研究等离子体源的大小与它发射的光的颜色之间的关系成为可能。 g`8 mh&u%  
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对于这个新工具,研究人员使用了锥形区域板和透射光栅的组合。这两者都是在MESA+上生产的。锥形区域板是专门的光学元件,可以操纵极紫外光来精确地成像等离子体源。透射光栅将光分散成单独的颜色,使单独测量它们成为可能。 kFa?q} 47  
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相关链接:https://phys.org/news/2023-09-tool-plasma-source-simultaneously-microchip.html
关键词: 光刻机芯片
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最新评论

谭健 2023-09-17 21:19
太厉害了
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