价格：4500，VIP:4410 SVIP:4275 S$egsK" ~
课程共三十节 H{ 4/~Z
课程简介：
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H& 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用所需的基板，镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化，设计好之后，即刻进行制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，则要修改设计，重新分析直到合格为止。
F,l% SQCyj 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
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Y} 课程大纲：
0s%r d>3 1. 软件基础入门
fmv8)$W#U 软件简介
GA.4'W^&a 软件计算方法简介
&9*MO 程序基本框架和全局
参数设置
c{SD=wRt,y 程序中使用的各种术语的定义
1X45~ 
1MF0HiC 2. 图表
nRL2Z5iO- 绘图和制表来表示性能
kl90w 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
h+! 交互式绘图的使用
ktMUTL(B 3. 材料管理
#VA8a=t 材料的获取
/cN. -lEo% 材料的导入与导出
~l=Jx* 材料数据平滑与插值
uSRvc0R\ 用包络法推导介质膜的光学常数
{q}#
S q 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
8pQ:B/3= 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
F~ Z~OqCS 4. 薄膜设计与优化简介
G^ 2a<?Di 优化与合成功能说明
WV8?zB1 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
O(Tdn;1 膜层锁定和链接
' +Gy)@c 减反膜优化
NxyrP**j 高反膜优化
UJX=lh.o 滤光片优化
]F]!> dKA 斜入射光学薄膜
w=txSF&Qr 5. 反演工程
R
Wd#)3 镀膜过程中两种主要的误差（
系统误差和随机误差）
! _|rVg. 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品
fcC?1M[BP~ 6. 分析工具
nU6WT | 颜色模型和分析工具
.vbUv3NI 公差工具和良品率预估
7rdPA9 灵敏度分析
YyZ>w2_MTi 7. 附加模块-Vstack
Q6r!=yOEY 非平行平面镀膜
"V:24\vO 棱镜镀膜透反吞吐量评估
3?"JFfYU,' 8. 附加模块-DWDM
UQ ~7,D`=# 光通信用窄带滤光片
模拟 s=uWBh3J 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
xlH?J;$ 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
I'NE>!=Q 镀膜沉积过程噪声信号模拟
_%`<V!RT\ 10. 附加模块-Function
+-|D$@8S 如何在Function中编写脚本
hSvA
dT]m 案例：自定义画图
bLHj<AX#>| 案例：
太阳能抗反射薄膜分析
9b0M'x'W5 案例：膜厚变化颜色变化
