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}$$b6G 内容简介 F},JP'\X Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 [FC%_R&& 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 (MxLw:AV 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 rbP.N
?YU% (TnYUyFP` 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 \u)s Zh 目录 f5sk,Z Preface 1 OW #pBeX99 内容简介 2 xmVK{Q YT$ 目录 i kV(?u_ R 1 引言 1 jkD5Z`D 2 光学薄膜基础 2 -Tz9J4xU& 2.1 一般规则 2 :;7q up 2.2 正交入射规则 3 r*tGT_/6 2.3 斜入射规则 6 d6M
d~$R 2.4 精确计算 7 $}HSU>,% 2.5 相干性 8 g$]9xn#_[ 2.6 参考文献 10 HX<5i>]0\u 3 Essential Macleod的快速预览 10 7L]fCw
p[ 4 Essential Macleod的特点 32 PDGh\Y[AK, 4.1 容量和局限性 33 'etCIl3 4.2 程序在哪里? 33 X7n~Ws&s@ 4.3 数据文件 35 ;zh|*F> 4.4 设计规则 35 $
Q2|{* 4.5 材料数据库和资料库 37 h|jsi*4NnL 4.5.1材料损失 38 c\RDa|B, 4.5.1材料数据库和导入材料 39
;xry 4.5.2 材料库 41
gZvl
D 4.5.3导出材料数据 43 */Y@:Sjf 4.6 常用单位 43 -M/ny-;`} 4.7 插值和外推法 46 43P?f+IYrk 4.8 材料数据的平滑 50 g(<@r2p 4.9 更多光学常数模型 54 _{ ?1+ 4.10 文档的一般编辑规则 55 sRYFu% 4.11 撤销和重做 56 Hi|Oeu 4.12 设计文档 57 .e]!i(5I 4.10.1 公式 58 fQe- v_K 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 LiN{^g^fx 4.10.3 沉积密度 59 A\ LTAp(I 4.10.4 平行和楔形介质 60 /Wzic+v<> 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Va
!HcG1^: 4.10.4 性能 61 Os[^ch 4.10.5 保存设计和性能 64 3RGVH, 4.10.6 默认设计 64 M6g!bK2l 4.11 图表 64 B)Gm"bLCOZ 4.11.1 合并曲线图 67 H!s &]b 4.11.2 自适应绘制 68 Kk#8r+, 4.11.3 动态绘图 68 B:SzCC.B 4.11.4 3D绘图 69 o&X!75^G> 4.12 导入和导出 73 Y&+<'FA 4.12.1 剪贴板 73 Q6DE|qnV
4.12.2 不通过剪贴板导入 76 lN^L#m*@ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 W\X51DrEx 4.13 背景 77 9ft7 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 {mI95g& 4.15 生成Rugate 84 iD{;!dUZ 4.16 参考文献 91 UT>\u 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 PUucYc 5.1 Jobs 92
69CH W & 5.2 创建一个新Job(工作) 93 2MJ0[9 5.3 输入材料 94 8$@gAlI^ 5.4 设计数据文件夹 95 B Q".$(c
q 5.5 默认设计 95 \O\onvEa 6 细化和合成 97 dD!} P$ 6.1 优化介绍 97 ("IRv>} 0 6.2 细化 (Refinement) 98 L5PN]<~T 6.3 合成 (Synthesis) 100 DJ=miJI' 6.4 目标和评价函数 101 pn'*w1i 6.4.1 目标输入 102 y37n~~% 6.4.2 目标 103 nCYicB 6.4.3 特殊的评价函数 104 %tmK6cY4Y 6.5 层锁定和连接 104 PcJ,Y\"[ 6.6 细化技术 104 C8aYg 6.6.1 单纯形 105 8m-ryr) 6.6.1.1 单纯形参数 106 VNA VdP 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 uVIs5IZzIi 6.6.2.1 Optimac参数 108 =|am=Q?Q 6.6.3 模拟退火算法 109 ']4sx_)S 6.6.3.1 模拟退火参数 109 gK`6NUj 6.6.4 共轭梯度 111 X}g!Lp 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ~Kt.%K5lgt 6.6.5 拟牛顿法 112 ;|}6\=( 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 x|E$
f+ 6.6.6 针合成 113 .Ml}cE$L 6.6.6.1 针合成参数 114 He&dVP 6.6.7 差分进化 114 epz2d~; 6.6.8非局部细化 115 vek9. 4! ] 6.6.8.1非局部细化参数 115 ])T*T$u 6.7 我应该使用哪种技术? 116 eK4\v:oG1 6.7.1 细化 116 l[rIjyL@ 6.7.2 合成 117 4,TS1H 6.8 参考文献 117 @P[Tu; 4 7 导纳图及其他工具 118 glPOW 7.1 简介 118 3'*SSZmnOB 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 IjJ3./L!5 7.2.1 四分之一波长规则 119 Bd)Qz(>rw 7.2.2 导纳图 120 Q4q3M=0 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 #OH# &{H 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ^;Ap-2Ww 7.5 斜入射导纳图 141 > : \lDz 7.6 对称周期 141 zj"J~s;? 7.7 参考文献 142 p@>_1A}qh_ 8 典型的镀膜实例 143 V$<og 8.1 单层抗反射薄膜 145 zziuj s: 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 :] {+3A 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 EKq9m=Ua@o 8.4 W-膜层 148 TfVB~"& |