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NE3wui1 V 内容简介 0 '7s Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 aT#{t{gkA 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 N[bN"'U/1 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 dyzwJ70K 41o!2(e$ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 >iH).:j 目录 GB?#1|, Preface 1 ^-GX&ODa 内容简介 2 Qz+d[%Q}x 目录 i @>2rz 1 引言 1 xm|4\H&Bg 2 光学薄膜基础 2 m5w9l"U]H 2.1 一般规则 2 )8 :RiG2B 2.2 正交入射规则 3 ~'J =!Xy 2.3 斜入射规则 6 I`W-RWZ 2.4 精确计算 7 x7Rq|NQ 2.5 相干性 8 BG:`Fq"T 2.6 参考文献 10 Gv,92ny!| 3 Essential Macleod的快速预览 10 gAA
%x7 4 Essential Macleod的特点 32 ; axaZV 4.1 容量和局限性 33 >zg8xA1zL 4.2 程序在哪里? 33 &JhIn%=- 4.3 数据文件 35 #A/J^Ko 4.4 设计规则 35 8[1DO1*P 4.5 材料数据库和资料库 37 rtL9cw5 4.5.1材料损失 38 5**5b9bj-9 4.5.1材料数据库和导入材料 39 90iW-"l+[ 4.5.2 材料库 41 *OOa)P{^D 4.5.3导出材料数据 43 l8xd73D)8 4.6 常用单位 43 (
ssH=a 4.7 插值和外推法 46 K-5"# 4.8 材料数据的平滑 50 7lDaok 4.9 更多光学常数模型 54 {<}I9D5 4.10 文档的一般编辑规则 55 ?PE1aB+{: 4.11 撤销和重做 56 e0N=2i?I#z 4.12 设计文档 57 3TiXYH 4.10.1 公式 58 EkStb# 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 B#GZmv1 4.10.3 沉积密度 59 $sc8)d\B 4.10.4 平行和楔形介质 60 O3C)N
I\i
4.10.5 渐变折射率和散射层 60 a&s"#j 4.10.4 性能 61 )_b@~fC 4.10.5 保存设计和性能 64 W|H4i;u 4.10.6 默认设计 64 =!S@tuY 4.11 图表 64 F*4Qa 4.11.1 合并曲线图 67 ;;y@z[ > 4.11.2 自适应绘制 68 86[RH!e 4.11.3 动态绘图 68 D;^ZWz0 4.11.4 3D绘图 69 4-M6C 5#. 4.12 导入和导出 73 {7TJgS 4.12.1 剪贴板 73 oj^5G
]_< 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 +<!)k? 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 `!,\kc1 4.13 背景 77 N}+B:l]Qy 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 3\p]esse 4.15 生成Rugate 84 n$hqNsM 4.16 参考文献 91 -Ty<9(~S 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 4('0f:9z+ 5.1 Jobs 92 9Nag%o{*S> 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Pzk[^z$C 5.3 输入材料 94 PK-}Ldj
5.4 设计数据文件夹 95 o}mhy`} 5.5 默认设计 95 Pa+AF 6 细化和合成 97 f>s#Ngvc 6.1 优化介绍 97 =0s`4Y"+ 6.2 细化 (Refinement) 98 3Y1TQ;i,wQ 6.3 合成 (Synthesis) 100 f0cYvL] 6.4 目标和评价函数 101 hpqHllL 6.4.1 目标输入 102 c?p0#3%L# 6.4.2 目标 103 %/tGkS6 6.4.3 特殊的评价函数 104 K4?t' dd] 6.5 层锁定和连接 104 Imh2~rw; 6.6 细化技术 104 }j5R@I6P 6.6.1 单纯形 105 X|-v0 f
6.6.1.1 单纯形参数 106 f\x@ C)E 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 T.R>xd`9
" 6.6.2.1 Optimac参数 108 >%n8W>^^4 6.6.3 模拟退火算法 109 u:AfHZ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 %67G]?EXB
6.6.4 共轭梯度 111 [Q7->Wo|S: 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 R<y Nv 6.6.5 拟牛顿法 112 M73VeV3DL 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 vu_>U({.
T 6.6.6 针合成 113 r6oX6.c 6.6.6.1 针合成参数 114 ONr?.MJ6j 6.6.7 差分进化 114 nxn[ ~~ 6.6.8非局部细化 115 1kvPiV=X> 6.6.8.1非局部细化参数 115 3P+4S|@q(4 6.7 我应该使用哪种技术? 116 'uP'P# 6.7.1 细化 116 Ad}-I%Ie 6.7.2 合成 117 R
(tiIo 6.8 参考文献 117 tAb;/tM3I 7 导纳图及其他工具 118 XI%RneuDr: 7.1 简介 118 r%g
<hT 8 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 m{:" 1] 7.2.1 四分之一波长规则 119 KA|&Q<<{@ 7.2.2 导纳图 120 $I)Tk`= 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 v5&xY2RI7 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
nR,Qm=; 7.5 斜入射导纳图 141 wE,=%?" 7.6 对称周期 141 .KT 7le<Zm 7.7 参考文献 142 4f{[*6 GX 8 典型的镀膜实例 143 c{'$=lR " 8.1 单层抗反射薄膜 145 _SMT.lG
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 8Ehy9< 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 /32Ta 8.4 W-膜层 148 N<L$gw+)$D 8.5 V-膜层 149 (ZE%tbm2 8.6 V-膜层高折射基底 150 T8,k77 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 sowbg<D 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 E<D+)A 8.9 四层抗反射薄膜 153 &K9VEMCEX 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 qO:U]\P 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 1zb$5 {,| 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 a^RZsR 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 -{yDk$" 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 bjM-Hd/K 8.15十五层宽带抗反射膜 159 &%|xc{i 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 w$DG=! 8.17 1/4波长堆栈 162 cOzg/~\1 8.18 陷波滤波器 163 c^ixdk 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 hrJ$%U
8.20 褶皱 165 g>6:CG" 8.21 消偏振分光器1 169 KW&nDu |