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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 mVUDPMyZ
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 [+dOgyK `3GC}u>} 任务描述 o0t/
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 H~y 7o_tg <4V]>[{W 镀膜样品 WPLM*]6 关于配置堆栈的更多信息。 2@ 4^ 81 利用界面配置光栅结构 PO9<g% qTf 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 doM}vh)6 - 涂层厚度：10纳米 ~Mu=,OT - 涂层材料。二氧化硅 CtItzp - 折射率：扩展的Cauchy模型。 G ,,c,  Hp`Mp )1s 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 :"BZK5{ 8 - 基板材料：晶体硅 Id-?her>B - 入射角度。75° <~ E'% 60; &Xw{%Rg  aDr 46TB`J
0{u31#0j 椭圆偏振分析仪 +o&&5&HR
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 eyPh^c]?`8 I[b@U<\ 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 D4jf%7X!Lu 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 NY]`1yy CYlZ< W'
椭圆偏振分析仪 5G-)> GWP;; x%
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n- cEa/g 总结 - 组件... i^hgs`hvU
\g|u|Y.2[
 &j2fh !\4 ^'"sFEV7RN  yj]\%3o<Z7 u[25U;xo 椭圆偏振系数测量 f#9DU}2m
N[G <&f9 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 {UX[SAQ
6fxf|R\
 ~i&Lc 7Xl fG;(&Dx 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 'k2Z$+
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 \W 73W_P&g G[U'-a}I 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 adEcIvN$
e%#8]$ 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 nx<q]J uv\ T?=[6
 CfFNk "0{ * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) |Tz/9t u#tLY/KA 仿真结果与参考文献的比较 'IrwlS
7.O1
~- 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 YE#OAfj~
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 B@w Q [ XWo=?(i A VirtualLab Fusion技术 LGb.>O^
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