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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 0sq=5 B nO
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任务描述 ;u4@iN}p
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 *+_fP |cv =; ~%L 镀膜样品 u5 [1Z|O 关于配置堆栈的更多信息。 V+4k! 利用界面配置光栅结构 Xq=!"E 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 D#vn {^c8O - 涂层厚度：10纳米 jhjW* F<u - 涂层材料。二氧化硅 L%c ]%3A - 折射率：扩展的Cauchy模型。 ):|G
k Sm  [TiT ff&LV 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 pgLzFY[' - 基板材料：晶体硅 N7RG5 ? - 入射角度。75° ae9k[=- -s?dzX  a'*5PaXU@/
.ruz l(6 椭圆偏振分析仪 Thht_3_C,f
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 $S($97IU= G# 9o? 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 N \CEocU 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 n zQYn r{Qs9
椭圆偏振分析仪 W<cW;mO
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H3UX {|[ 总结 - 组件... .g( \ B
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 vV:M S O'r o3\SO  :*F3 @'F8 |I 6 椭圆偏振系数测量 ei|*s+OZu
^2Fs)19R 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 web8QzLLB
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 #+k .b_LS @ ^XkU(m 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 NbQMWU~7
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 AK*mcTr C-:SQf 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 @kCD.
0^)8*O9$ 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 >H=Q$gI " t%1@b*u
 5b{yA~ty * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) =?`y(k4a n_ xa) 仿真结果与参考文献的比较 CwEWW\Bu
K,L> 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 !mErt2UJl
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 nM (=bEX @dT : 1s VirtualLab Fusion技术 yTq(x4 ]
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