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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 r ;RYGLx
)4L2&e`k)(
 <l{oE? N uL`#@nI 任务描述 ny5 P*yWEh
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 t0m;tb bg ca g 5w~Px 镀膜样品 ("2X8(3z 关于配置堆栈的更多信息。 ez ,.-@O 利用界面配置光栅结构 &<V U}c^! 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 0K%okq|n - 涂层厚度：10纳米 ]y_ :+SHc - 涂层材料。二氧化硅 HAxLYun(3w - 折射率：扩展的Cauchy模型。 'x*C#mt  JU?;Kq9R 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 Qr $'Q 7 - 基板材料：晶体硅 2/&=:,"t,B - 入射角度。75° ba|xf@=& d`^3fr'.4A 
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jIubJQR~ 椭圆偏振分析仪 #n> U7j9`O
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 [oh LG_9 IVNH.g' 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。
XIInI 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 4$xVm,n|
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椭圆偏振分析仪 0= $ / |?T=4~b
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k&$ov 总结 - 组件... Hr?lRaV
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E8 J&A1]T4d 椭圆偏振系数测量 {`!6w>w0
KU|W85ye 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 @z1QoZ^w
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 &-=~8 w}3N!jNDv 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 2;v:Z^&
o co,sxT
 syl 7i>P //7YtK6 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 UI AazDyC
X:i?gRy" 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 %'KRbY ?X|)0o
 7Eyi~jes * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) XDPR$u8hM X:W\E eH 仿真结果与参考文献的比较 d5'Q 1"{
0AO^d[v 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 v9f+ {Y%-
H$I~Vz[\yb
 u@_|4Bp," # /YS VirtualLab Fusion技术 eK7A8\ ;e
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