1.模拟任务 $@qs(Xwr
7+!7]'V 本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 FvNSu"O~K1 设计包括两个步骤: R5;eR(24G - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 JTh=JHJ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 eeJt4DV8v 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 }B
'*8^S V-ouIqnI ocuVDC 照明光束参数 |^k1hX2?W
)< a8a@
hYUV9k:
波长:632.8nm
pOI`,i}.
激光光束直径(1/e2):700um ^YJ^+:D( $E,DxDT 理想输出场参数 X>GY*XU
(F
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i`nw"8
直径:1° Q%VR@[`\
分辨率:≤0.03° [`-O-?=
效率:>70% hUhp2ibEs
杂散光:<20% kbT-Oz 2
JX0_UU KIBZQ.uG 2.设计相位函数 5F sj_wFk pL/.JzB zcWxyLifl0
!@Vp Bl
相位的设计请参考会话编辑器 6N+)LF}P b
Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 P5xmLefng
设计没有离散相位级的phase-only传输。 |wb(rua
@gjdyz 3.计算GRIN扩散器 8Gg/M%wq9U GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 t{s*3k/ 最大折射率调制为△n=+0.05。 d~Ry> 最大层厚度如下: ^?]H$e 3R:i*8C 4.计算折射率调制 |j}F$*SE[ Eg29|)qsz 从IFTA优化文档中显示优化的传输 N_k6UA9 ~rX6owBq 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 J+NK+,_*M HgATH ~d `4W<1a 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 "3 oU
(RA /cen#pb
yi;t
乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 [_hhC
[=F
|^KL G( \1{"! 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 ~[y+B0I3 }Q^a.`h \` ^Tbn:
}/r%~cZ
数据阵列可用于存储折射率调制。 'R'a/ZR`B7
选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 Rs[]i;
插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 l'%R^
$cU/Im`
5.X/Y采样介质 V(uRKu
x 10IPq#Jj
pP,bW~rk GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 Z|S7", 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 F/>Pvq] 元件厚度对应于层厚度12.656μm。 * .VZ(wX 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。 ~RAH -] +##I4vP 9?$!=4
iX6jvnJ:/
基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 VDY1F_Fk
折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 HWOH8q{f!
应该选择像素化折射率调制。 FNEmGz/4
J}\]<aC
R>&/n/l
优化的GRIN介质是周期性结构。 u*N8s[s'
只优化和指定一个单周期。 t+J6P)=
介质必须切换到周期模式。周期是 xU<lv{m`D
1.20764μm×1.20764μm。 fr2w k}/b M?zAkHNS$ 6.通过GRIN介质传播 g"?D>}@= ?+=|{{l beZ| i 1:
gSYX @'Q!
通过折射率调制层传播的传播模型: +aqo8'a
- 薄元近似 T["(YFCByg
- 分步光束传播方法。 !r0P\
对于这个案例,薄元近似足够准确。 695ppiKU
在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ++"PPbOe&D
场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 ?}
tQaj
7"i*J6y* 7.模拟结果 hO@3-SRa,k %]oLEmn}y 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
v ed
Qwzh
8.结论 7b2<,
.E
|R/50axI VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 L(8dK 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 F
&}V65 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 {hR2NUm