[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 
?vFh)U  
^kvH/Y&  
9/Dt:R3QU  
Y}uQ`f  
该用例展示了… A=UIN!  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： uR@`T18  
倾斜光栅介质 SAh054/St  
体光栅介质 W_\L_)^X  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 #@^w>D6W  
C-u/{CP  
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/\cu!yiX  
光栅工具箱初始化 1:zu$|%7  
i8_x1=A  
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 初始化 ;J-Ogt@d7  
开始-> zL'IN)7MU  
光栅-> qLi9ym, ]  
通用光栅光路图 (V.,~t@
  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 Lzx$"R-  
光栅结构设置 I<./(X[H:#  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 >JPJ%~y  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 5w)^~#'  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 ~e77w\Q0  
!u4Z0!Ll  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 07Q[L'}y@  
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堆栈编辑器 IXvz&4VD  
ASZ5;N4u  
H
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堆栈编辑器 $;uWj|  
}<ONxg6Kb  
I.+)sB?5  
涂层倾斜光栅介质 nP\V1pgA  
?h)3S7  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 .(7C)P{.0  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 6~h1iY_~  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 w<~<(5mM5;  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） x*&&?nV Iz  
{IPn\Bka  
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7s8<FyFsjd  
涂层倾斜光栅介质  n22hVw  
B_"OA3d_  
\W`}L  
TdP{{&'9  
涂层倾斜光栅介质 AqbT{,3yW  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 @SC-vc  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 oIvnF:c  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 cxD}t'T  
L);||]B  
7t-*L}~WA  
YKe0:cWc  
涂层倾斜光栅介质参数 Krr?`n  
0?F@iB~1F  
3W-NS~y  
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涂层倾斜光栅介质参数 Xh0wWU*  
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qXB03}] G  
高级选项&信息 hr
<7l C  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 "zedbJ0  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 +(<n |~  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 O,=Q1*c,&  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 9*=@/1  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 X40la_[.  
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s3Krob`C5  
;WvYzd9  
高级选项&信息 68p\WheCal  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 ?)?IZ Qj  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 m
0
I #  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 q!hy;K`Jd  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 JA?,0S  
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S2'`|uI  
高级选项&信息 +EST58  
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,5eH2W  
nE]~E xr  
高级选项&信息 iHE0N6%q  
vh|Tb5W<  
u=@h`5-fp  
?AV&@EX2C  
体光栅介质 CJMaltPp&  
P"R97#C  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 6(N.T+;]  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 r/CEYEJ&X  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 ;Cr_NP[8|j  
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r@*=|0(OrK  
).0V%}>  
体光栅介质参数 ="3a%\  
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 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 l zfD)TWb  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 /h?<MI\7V  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 [{S;%Jj*X/  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） S|K|rDr0n  
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体光栅介质参数 g2g
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高级选项&信息 gCv"9j<j
 
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高级选项&信息 b%Wd<N2  
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在探测器位置处的备注 xK$}QZ)  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 u$WBc\j  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 r#LnDseW  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 wENzlXeOP  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） $z= 0[%L  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 @4;HC=~  
^Vag1(hdq  
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