[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 q*4=sf,>  
?Q%X,!~\:  
u IGeSd5B  
if
y}xv  
该用例展示了… rOd~sa-H  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： N3g\X
  
倾斜光栅介质 +(3U_]Lu  
体光栅介质 .a`(?pPr,  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 6Z3L=j  
;/g Bjp]H  
f+Ht  
V t@
]  
光栅工具箱初始化 z8\z`#g!  
jou741  
v46 5Z  
 初始化 *Z,?VEO  
开始-> wXnluE  
光栅-> )Cfk/OnRd  
通用光栅光路图 P4S]bPIp  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 zBTyRL l  
光栅结构设置 Y<0R5rO  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 m]#oZVngy  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 I8:A]  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 _)?59  
(Ld,<!eN0  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 p`-Oz]  
#XPY\n^k  
堆栈编辑器 ^\ocH|D  
p,K]`pt=  
QpZCU]  
q71~Y:7f  
堆栈编辑器 mxfmK +'_  
KrDG  
L
aCVI  
涂层倾斜光栅介质 K~ob]I<GiB  
Qt`;+N(  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 Ods/1 KW  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Yg kd1uI.  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 Q^k\q  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） -.=:@H}r  
GLE/ 1  
z+(V2?xcvt  
LX2Re ]&  
涂层倾斜光栅介质 V>Vu)7  
?|NMJQsa7  
yT<,0~F9  
y8arFG  
涂层倾斜光栅介质 g/f^|:  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 !xxdC  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 n/Fx2QC{  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 UHT2a9rG  
<tx`#,  
xg8$ <Ut  
64R
~ $km  
涂层倾斜光栅介质参数 Yw_^]:~  
dn}'B%  
`ZhS=ezgr  
.Gq]Mrim9G  
涂层倾斜光栅介质参数 <A
`zK   
Rw!wfh_+  
FX,kmre3  
)N'rYS'9  
高级选项&信息 UrJrvx  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 { d|lN:B  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置
I:Q3r"1  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 >,}SP;  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 ' |Ia-RbX  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 8qF OO3c\V  
5|_El/G  
;@$v_i  
]7DS>%mY(  
高级选项&信息 'S#D+oF(1~  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 cl1>S3  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 l:- <CbG  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 m4~>n(  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 /n-!dXi  
f{+n$Cos  
YE;Tpji  
:&`,T.N.vK  
高级选项&信息 Mp,aQ0bNS  
y1
OpZ  
]
Mb:zs<r  
Tx:S{n7&  
高级选项&信息 tLSM]Q  
2C[xrZa^  
w tSX(LNY  
i)=dp!Bx^  
体光栅介质 C7Ny-rj}IA  
J>N^FR9  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ":W$$w<  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 CKy/gTN  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 \w@V7~vA  
JxmFUheLt  
f=paa/k0  
O 4C}]E  
体光栅介质参数 mTgsvC  
[5i}C K_=  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 e]zd6{g[m  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 Lpv,6#m`)  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 fVo7wp  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） lcfX(~/m^  
y#v<V1b]  
AR3v,eOs  
Zonr/sA~  
体光栅介质参数 OOZxs?pR  
O)%s_/UX  
V(
wANvH  
"Ta"5XW  
高级选项&信息 <_3OiU=w  
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sOqH  
%_. fEFy07  
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高级选项&信息 `G "&IQ8.  
s`I]>e  
(-%1z_@Y  
Dks"(0g  
在探测器位置处的备注 BI6]{ZC"  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 H>Q X?>j  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 @TvDxY1)6Z  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 )R6-]TkA_  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） =-E%vnU  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 m8<.TCIQ  
iyTKy+3A  
FO{?Z%& ;