[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 <>
5:
u  
61Iy{-/ZV  
pb2{J#  
A86lyBDQ*  
该用例展示了… E't G5,/m  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： a*n%SUP  
倾斜光栅介质 e2=,n6N]c  
体光栅介质 +<9q]
V  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 'i h  
>!v,`O1  
|@Idf`N$  
lh(+X-}D  
光栅工具箱初始化 pTV@nP  
4f@\f7\  
5, "^"*@<  
 初始化 e5/DCz  
开始-> m 
'H  
光栅-> j}?ZsnqV  
通用光栅光路图 1n5e^'z  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 h C`p<jp/  
光栅结构设置 (+Nmio  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 ;x0KaFk  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 e#e
O`bT  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 5SWX v+  
{msB+n~WZ  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 m$y$wo<K[7  
~JmxW;|_x)  
堆栈编辑器 M(]|}%  
/wRK[i  
ALt";8Oa  
WZ V*J&  
堆栈编辑器 {arjW3~M:  
zvs 2j"lb  
Y;5^w=V  
涂层倾斜光栅介质 @j8L{FGnN  
Z a y'/b  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 \iLd6Qo_aq  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 /z-C :k\  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 n,'AFb4AF  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） w.F3o4YP  
:IKp7BS  
{ZYCnS&?CL  
h|>n3-k|p  
涂层倾斜光栅介质 2iINQK$  
]8cX#N,M  
^@w1Z{:  
|0pBBDw  
涂层倾斜光栅介质 NU\t3JaR  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 s#Y7*?Sm  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 Uz8C!L ">C  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 GKDG5u;  
c+M@{EbuN  
 ]mU*Y:<  
a}]@o"  
涂层倾斜光栅介质参数 ^?VT y5yp  
qpH-P8V   
DG9;6"HBX  
Q-%=ZW Z  
涂层倾斜光栅介质参数 NP(?[W  
.4)P=*  
lxJ.h&"P  
,O`*AzjS5Q  
高级选项&信息 }Nc!8'@  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 2F(\}%UT~  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 "_}D{ws1  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 e ^&8x  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 ng6p#F,3  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 Y]Nab0R
&  
S|h  m  
6Z}))*3 9  
Nfvg[c  
高级选项&信息 Re ur#K  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 EqU[mqeF  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 {v'Fg  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 JEkVj']?  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 7lOiFw  

4T^WRS  
P
@?'@.e  
kpUU'7Q  
高级选项&信息 cO+`8`kv  
~"B[6^sW  
vwD(J.;  
by[(9+/z$  
高级选项&信息 6>A8#VT  
&y?B&4|hM  
ikiy>W8  
aN3{\^  
体光栅介质 VX%\_@  
AVZ@?aJgF  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 >,2],X"G  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 C5 !n{  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 DF =.G1  
FX 3[U+  
K;lC#  
6w,xb&S  
体光栅介质参数 !*-cf$  
n|6yz[N  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 `9gx-')]\  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 _v,n~a}&  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 vt,X:3  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ;0E4S  
G_]mNh  
^j7pF.j  
F6/
bq/s  
体光栅介质参数 EK^2 2vi$  
X}Fv*  
3 Gkw.  
]CYe=m1<2Q  
高级选项&信息 *UC^&5:  
oJy/PR3  
;7hr8?M|  
_De;SB%V  
高级选项&信息 3t'K@W?AJh  
'%N p9Iqt  
COafVlJ,l  
J/Li{xp)Lg  
在探测器位置处的备注 RP$A"<goP  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 (%1*<6ka  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 A6VkVJZx  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 Cpl)byb  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） nYY U  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 :gXj($  
= j -  
qyto`n7