[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 klT6?'S  
I4m)5G?O2  
S&_ZQLiQ$  
6du
"^g  
该用例展示了… /P^@dL  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： H
Z[&ZNTa  
倾斜光栅介质 E4}MvV=  
体光栅介质 ,{J2i#g<  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 0 v/+%%4}  
vIN6W  
6@H&S  
J-Sf9^G  
光栅工具箱初始化 m1\>v?=K  
-|
J?-  
N%y%)MI8  
 初始化 w V;y]'  
开始-> 6XFO@c}d  
光栅-> FE M_7M  
通用光栅光路图 GZI[qKDfB  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 g0g/<Tv[  
光栅结构设置 pRMM1&H  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 ut3jIZ1]  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 %m+ZrH(  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 S_ nTp)  
)I1LBv
fQ  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 <Y~V!9(~{Q  
rp=?4^(u  
堆栈编辑器 <@F4{*  
? 1Z\=s  
m6lNZb]  
~{2@-qcm  
堆栈编辑器 [USXNe/  

r)+dK}xl  
V X211U.Q  
涂层倾斜光栅介质 {7(h%]  
Plm3vk=  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 -BEPpwb<g  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 "_?^uymw  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 $PrzJc  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） tG%R_$*  
J3$`bK6F6  
Hsp|<;Yg  
uA}asm  
涂层倾斜光栅介质 em>CSBx  
tvFJ^5  
N|[a<ut<  
2$T~(tem  
涂层倾斜光栅介质 <U1uuOt  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 BOh&Db*  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 9]AKNQq m  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 !u7WCw.Dm  
f3v/Y5)  
>vP^l {SD  
N3x}YHFF  
涂层倾斜光栅介质参数 0&5}[9?V'  
'JkK0a2D  
d%]7:  
R^PQ`$W 'R  
涂层倾斜光栅介质参数 b~#rUOXb8?  
V!ajD!00  
78 UT]<Q;K  
n`^</0  
高级选项&信息 ke&c<3m  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 (AwbZn*  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 k]f73r  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 a,
}{f]  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 ](Sp0t  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 dFFB\|e;0  
JVXBm]  
d]@9kG  
ZnmBb_eX  
高级选项&信息 CdEJ/G:  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 > }:6m  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 $
"_D"/*  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 +x4o#N  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 !PQ@"L)p  
?np`RA  
PDGh\Y[AK,  
'etCIl3  
高级选项&信息 X7n~Ws&s@  
0} {QQB  
qbT].,?!U  
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taU  
高级选项&信息 /8
GVu7  
_N*4 3O`  
bfrBHW#  
^KlMBKWyB  
体光栅介质 3UH=wmG0w  
q@^=im  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 xpSMbX{e  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 +  1v@L  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 /yH:ur
 
*[ A%tj%  
-bE{yT)7  
<M 7WWtmx  
体光栅介质参数 ) tsaDG-E  
? 8'4~1g`}  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 vB#3jI  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 K_}vmB\2l  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 rZzto;NDS  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ~j8x"  
_#-(XQa  
&&t4G}*  
0iHK1Pt}  
体光栅介质参数 O'j;"l~H|  
NShA-G N5  
VxsW3*`  
BWQ (>Z"  
高级选项&信息 1_yUv7uhX  
kw1PIuz4&  
C' ny 2>uA  
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高级选项&信息 _-&Au%QNJ`  
'8dgYj  
,.F,]m=  
JLs7[W)O  
在探测器位置处的备注 Bz]64/  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 O </<  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 scrNnO[3j  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 cMtkdIO  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） 6rPe\'n=B  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 c\-I+lMBi  
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