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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 S83]O!w0 ;G iI'M
XB6N[E k];L!Fj1 介质目录中的斜光栅介质 ~+7a d$ YK(XS"Kl
p)K9ZI mjWp8i
内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 eUzU]6h 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 6z1aG9G %ZJ),9+ 斜光栅介质的编辑对话框 ~ra#UG\Y8 m$j
n5: ^yzo!`)fso =d:R/Z%, 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 <K|3Q'(S 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 =1V>Vd?8. 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 Ak<IHp^Q 斜光栅介质的编辑对话框 'YBLU )v[ MR^umLM88
yffU%
) b(+w.R(+Ti 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 Qi(e`(,' 以下参数可用: PPuXas?i - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) SSSDl$}'t - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) X}n&`y{/ - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) J)#59a - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) PV5TG39qQ > Z.TM=qj 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 S,d ngb{ H]T2$'U6 斜光栅介质的编辑对话框 "@UU[o luP'JUq
QZ:]8MHl] 'l0eo' K 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 n $D}0wSM/ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 1I:"0("} [[.&,6 斜光栅介质的编辑对话框 <;TP@-a ~/]\iOL ;%b <uV :$X4#k< #XYLVee, 首先,必须选择涂层材料。 2V=FWuXC" 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 q;Ar&VrlNq 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 (e bBH g0;&/;" 斜光栅的编辑对话框 {Q#Fen
;y| *`QdkVER
Z!s>AgH9u &K}(A{ >%jEo'0;_ 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 hM1&A 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 4cVs(`g^ cx1WGbZ 堆栈使用的评论 UG^?a Z<,CzKs+||
w#gU1yu ~(l2%(3G %0y3 /W 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 k:+)$[t7 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 sg9x?Bx9 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 ]C!Y~ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 hq& -G^t-I 斜光栅介质的采样配置 ;nAg4ll8Q .9[8H:Fe 斜光栅介质采样 X T)hPwg. X{9JSq 'nj&}A' 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 kVG6\<c] 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 f@xfb
ie! 在右边,显示了介质的预览。 ^S;RX* 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 rz%[o,s =J[[>H'<d
'#An+;x{ tr9_bl&z 采样斜光栅#1 v[3hnLN% -XDP-Trk
*F%ol;|Q <>5:u 采样斜光栅#2 /PB3^d>Q2 >I8hFtAM
z"P,=M6De z7us*8X{ 采样斜光栅#3 _.J[w6 Ow .)h(y/ >I66R; [Yahxw} 采样斜光栅#4 g ]PLW3 $M3A+6["H SUnmp
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