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    [技术]如何设置面板型光源 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-02-02
    PAxR?2m{  
    利用VirtualLab中的面板型光源,可以如现实一样对像素化显示进行建模。所述面板型光源可以由给定的像素个数和像素图形来定义,每个像素都发射出可调发散角的球面波。结合ParameterRun,可以对所有像素进行扫描,可针对特定应用灵活选择扫描方式,例如,用于分析具有像素化图像生成单元的成像系统 $j v"$0Fc  
    W/~q%\M {  
    {zLgLBM  
    T=@Ygjk  
    1. 基本参数 [X8EfU}  
    &2O~BIRE  
    N|ZGc{?  
     面板型光源模拟确定的像素数目,每个像素用一个球形波表示,作为基本模式。 ?FV%e  
     所有模式具有相同的孔径形状,并可在基本参数(Basic Parameters)选项卡中配置。 U\-.u3/  
     此外,还可以设置相对或绝对边缘宽度。 Kxz|0l  
    D0TFC3.k}  
    DZEq(>mn  
    kc}|L9  
    2. 特定参数-强度  x\VP X  
    hJz]N$@W  
    peOoZdJd  
     特定参数(Specific Parameters)选项卡可以控制光源的强度和像素设置。 强度分布的设置可以根据: 0($On`#  
    - 通过指定彩色域集或通过导入图像文件来指定所需的变化。在这种情况下,波长从输入分布中选择;- 或者一个波长的所有像素的常数。在这种情况下,像素的数量可以分别沿x方向和y方向设置。 j#Lj<jX!xR  
    B7.&yXWgn  
    <E^;RG  
    xe3Jxo !U  
    3. 特定参数-像素设置 #uICH t3  
    GZY:EHuz[  
    Y4X`(\A  
     特定参数(Specific Parameters)选项卡可以控制光源的强度和像素设置。 HEhBOER?  
     像素间距(Pixel Pitch)可分别沿x方向和y方向设置。 YIb7y1\UM  
     另外,可以配置每个像素的孔径角度(Aperture Angle)。
    o#BI_#b  
    -像素尺寸50um
    -孔径角5°
    -像素尺寸50um
    -孔径角10°
    -像素尺寸100m
    -孔径角10°
    /g!Xe]Ss  
         \b$Y_  
    4. 光线选择 l0g+OMt  
    t -fmA?\  
     在Ray Selection选项卡中,对于每个模式,都可以指定所需的选择方法和射线的数量。 >RpMw!NT  
    yT='V1  
    . NxskXq)  
    5. 偏振设置 wqJl[~O$  
    W`TSR?4~t?  
    u),.q7(m  
     偏振设置(Polarization Settings)选项卡为所有像素提供偏振选项。 =ReSlt  
     偏振状态可以为: 40dwp*/!  
    −线偏振; N%e^2O)  
    −圆偏振; BqdpJIr  
    −椭圆偏振; %mzDmrzq  
    −一般通过琼斯矩阵输入。 %,aSD#l`f  
    bMv[.Z@v(  
    r>CBp$  
    soX^$l  
    6. 模式选择 %5@> nC?`[  
    ltNY8xrdGN  
    :()K2<E  
     在模式选择(Mode Selection)选项卡中,可以选择不同的光谱成分和像素。 LZE9]Gd  
     波长可以单独或全部选择。 I#7H)^us  
     像素可以在指定的列或行中选择,也可以作为单个像素选择。 =e9<.{]S/  
    s%6L94\t  
    2t>>08T  
    G{Uqp'=G  
    X gtn}7N.  
    7. 参数运行-扫描每个单个像素 c+8 Y|GB  
    %dhrXK5  
    m#RMd,'X  
     在模式选择选项卡中,选中“像素”。 JRAU|gr  
     启动参数运行并切换到扫描模式。然后扫描选定的列和行索引。 Lc "{ePFh  
     
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