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]op}y0 内容简介 LPZF)@|` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 HJLu'KY} 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 +o\:d1y 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 <;vbsksZeH d/PiiiFf, 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 'Y*E<6: 目录 @Z*W Preface 1 mw_~*Nc'9 内容简介 2 ^T*? >%` 目录 i /(u}KMR!f 1 引言 1 `IP/d 2 光学薄膜基础 2 Eo{"9j\ 2.1 一般规则 2 LxYrl- 2.2 正交入射规则 3 13 =A 2.3 斜入射规则 6 S{]x 2.4 精确计算 7 )U~=Pf" 2.5 相干性 8 1n=lqn/ 2.6 参考文献 10
gp5_Z-me 3 Essential Macleod的快速预览 10 Sh/T , 4 Essential Macleod的特点 32 8J:}%DaxL 4.1 容量和局限性 33 [b6R% 4.2 程序在哪里? 33 &M46&^Jho 4.3 数据文件 35 ~Mx!^ 4.4 设计规则 35 C<NLE- 4.5 材料数据库和资料库 37 \]</w5 Pi, 4.5.1材料损失 38 )Ub_@)X3%l 4.5.1材料数据库和导入材料 39 T=iJGRctB 4.5.2 材料库 41 dYT% 4.5.3导出材料数据 43 ~D<IB#C 4.6 常用单位 43 J3e96t~u 4.7 插值和外推法 46 M$y+q
^ 4.8 材料数据的平滑 50 (zgW%{V@ 4.9 更多光学常数模型 54 S]bmS6# 4.10 文档的一般编辑规则 55 CLRiJ*U 4.11 撤销和重做 56 D ~stM 4.12 设计文档 57 +fC=UAZ 4.10.1 公式 58 <vUbv 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 q"%_tS 4.10.3 沉积密度 59 RX>xB 4.10.4 平行和楔形介质 60 m+b): 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 syWG'(> 4.10.4 性能 61 ",^Mxm{ 4.10.5 保存设计和性能 64 gYNjzew' 4.10.6 默认设计 64 Q3
u8bx|E 4.11 图表 64 oI=fx Sjd 4.11.1 合并曲线图 67 $CY~5A `l9 4.11.2 自适应绘制 68 mR&H9NG 4.11.3 动态绘图 68 v>$'iT~ l 4.11.4 3D绘图 69 j"}*T 4.12 导入和导出 73 ,VCyG:dw 4.12.1 剪贴板 73 Rtb7| 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 le1}0L 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 'm4W}F 4.13 背景 77 !qv ea,vw 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 'JCZ]pZ 4.15 生成Rugate 84 xC{qV, 4.16 参考文献 91 wj,:"ESb4 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 >d,jKlh^.% 5.1 Jobs 92 T+*%?2>q" 5.2 创建一个新Job(工作) 93 v:!Z=I}> 5.3 输入材料 94 byLft1 5.4 设计数据文件夹 95 { &"CH]r 5.5 默认设计 95 B.dH(um 6 细化和合成 97 ;g @4|Ro 6.1 优化介绍 97 P,xKZ{( 6.2 细化 (Refinement) 98 qHuZcht 6.3 合成 (Synthesis) 100 JTr vnA 6.4 目标和评价函数 101 zbk q 6.4.1 目标输入 102 V#XppYU 6.4.2 目标 103 K%a%a6k` 6.4.3 特殊的评价函数 104 y`F3Hr c 6.5 层锁定和连接 104 ht2\ y&si 6.6 细化技术 104 PK{acen 6.6.1 单纯形 105 ?)kG A$m# 6.6.1.1 单纯形参数 106 -*$HddD 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 \MbB# 6.6.2.1 Optimac参数 108 [3(74 6.6.3 模拟退火算法 109 d Vj_8> 6.6.3.1 模拟退火参数 109 }q $5ig 6.6.4 共轭梯度 111 {U1?Et# 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 z.kvX+7' 6.6.5 拟牛顿法 112 $})g?Q 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 K? y[V1, 6.6.6 针合成 113 [<%H>S1 6.6.6.1 针合成参数 114 ^lA=* jY( 6.6.7 差分进化 114 mS^tX i5hg 6.6.8非局部细化 115 )/pU.Z/ 6.6.8.1非局部细化参数 115 OW3sS+y 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ?AJKBW^ 6.7.1 细化 116 2 lj'"nm 6.7.2 合成 117 .!f$
\1l 6.8 参考文献 117 Y8m1M-#w 7 导纳图及其他工具 118 d/BM&r 7.1 简介 118 BQ=PW|[ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 E^vJ@O 7.2.1 四分之一波长规则 119 ~$)2s7
O 7.2.2 导纳图 120 F
P* lQRA 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 r [4tPk 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 X~lVVBO 7.5 斜入射导纳图 141 `%+Wz0(K 7.6 对称周期 141 8,C*4y~ 7.7 参考文献 142 RloK,bg 8 典型的镀膜实例 143 $wo?!gt 8.1 单层抗反射薄膜 145 GT0Of~?f 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 y+"X~7EX 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 fA+,TEB~d 8.4 W-膜层 148 gDQ1?N'8{t 8.5 V-膜层 149 RxI(:i? 8.6 V-膜层高折射基底 150 CIb2J)qev 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 n2)@S0{ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 gj*+\3KO@a 8.9 四层抗反射薄膜 153 E`?3PA8 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 .^h#_[dp 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 f33 l$pOp 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 }+C2I 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 9%B\/&f 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 >'&p>Ad) 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ]Q>.HH 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 uTKD 4yig 8.17 1/4波长堆栈 162 P} 0%-JC 8.18 陷波滤波器 163 w8U&ls |