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wx_j)Wij6 内容简介 deCi\n Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 _Oy;:XN 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 yBfX4aH:` 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 05o<fa 2HE 1Hs'YzvY 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 "&@{f:+ 目录 z+<ofZ(. Preface 1 o&>aYlXd 内容简介 2 x pBQ(6Y 目录 i ZNJ<@K- 1 引言 1 >O~ 2 光学薄膜基础 2 ,91 n 2.1 一般规则 2 ]E#W[6'VtB 2.2 正交入射规则 3 =4gPoS 2.3 斜入射规则 6 i'[! 'HY 2.4 精确计算 7 n2Ew0- 2.5 相干性 8 u=7#_ZC9L 2.6 参考文献 10 y-mjfW`n 3 Essential Macleod的快速预览 10 nBwDq^ 4 Essential Macleod的特点 32 3 5/ s\ 4.1 容量和局限性 33 )C0d*T0i 4.2 程序在哪里? 33 |mT1\O2a 4.3 数据文件 35 p;~oIy\, 4.4 设计规则 35 x;A.Ll 4.5 材料数据库和资料库 37 me$nP}%C& 4.5.1材料损失 38 m|Sf'5fK 4.5.1材料数据库和导入材料 39 q2*1Gn9!j 4.5.2 材料库 41 B(Er/\-@U 4.5.3导出材料数据 43 L9d|7.b 4.6 常用单位 43 A+(+PfU 4.7 插值和外推法 46 \s7/` 4.8 材料数据的平滑 50 Jv?EV,S/e 4.9 更多光学常数模型 54 (W?t'J^# 4.10 文档的一般编辑规则 55 3ej[ 4.11 撤销和重做 56 K?>sP%m) 4.12 设计文档 57 co-1r/
-O 4.10.1 公式 58 V,]Fh5f 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 \=Od1 i 4.10.3 沉积密度 59 0bteI*L 4.10.4 平行和楔形介质 60 S84S/y 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 3!`_Q% 4.10.4 性能 61 ~vcua@ 4.10.5 保存设计和性能 64 z=Xh 4.10.6 默认设计 64 HQMug 4.11 图表 64 3rX40>Cs8 4.11.1 合并曲线图 67 f6 s .xQ 4.11.2 自适应绘制 68 GU]kgwSfi 4.11.3 动态绘图 68 I8k+Rk* 4.11.4 3D绘图 69 PW\me7iCz 4.12 导入和导出 73 |?TX^) 4.12.1 剪贴板 73 $GYy[8{:V 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 G+<id1 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 +'_ peT.8 4.13 背景 77 >X*Y jv:r 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ()5X<=i 4.15 生成Rugate 84 *:ErZ UyQM 4.16 参考文献 91 2Sk"S/4}Z 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 5..YC=_20 5.1 Jobs 92 x<PJ5G L 5.2 创建一个新Job(工作) 93 -Ua&/Yd/} 5.3 输入材料 94 =MwR)CI# 5.4 设计数据文件夹 95 aLlHR_ 5.5 默认设计 95 z<gII~% 6 细化和合成 97 Rln\ 6.1 优化介绍 97 4j(`koX_ 6.2 细化 (Refinement) 98 p3e=~{v* 6.3 合成 (Synthesis) 100 T8d=@8g,% 6.4 目标和评价函数 101 _%#Uh#7P$ 6.4.1 目标输入 102 )TEod!] 6.4.2 目标 103 4BeHj~~ 6.4.3 特殊的评价函数 104 UhJ!7Ws$ 6.5 层锁定和连接 104 _7~q| 6.6 细化技术 104 _-2ntO<E 6.6.1 单纯形 105 9 9^7Ek!z# 6.6.1.1 单纯形参数 106 @!^Y_q 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 + WT?p] 6.6.2.1 Optimac参数 108 =Aw`0 6.6.3 模拟退火算法 109 2sp4Mm 6.6.3.1 模拟退火参数 109 [Y
j:H 6.6.4 共轭梯度 111 x,|fblQz 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 AnK X4Q 6.6.5 拟牛顿法 112 | >'q%xK 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 |9X2AS Qu 6.6.6 针合成 113 uh%
J 6.6.6.1 针合成参数 114 Mi\-
9- 6.6.7 差分进化 114 6cD3(// 6.6.8非局部细化 115 HZ1 nuA 6.6.8.1非局部细化参数 115 9$D}j" 6.7 我应该使用哪种技术? 116 F{c8{?: 6.7.1 细化 116 :jC$$oC]. 6.7.2 合成 117 .zTkOkL 6.8 参考文献 117 lCTXl5J5 7 导纳图及其他工具 118 1
1(GCu 7.1 简介 118 |<O^M q 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ? cn`N| 7.2.1 四分之一波长规则 119 ^Cvt^cI 7.2.2 导纳图 120 v=Q!ioE7 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 y Pg0:o- 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 lJ,\^\q 7.5 斜入射导纳图 141 VLJ]OW8cO 7.6 对称周期 141
HLQ>
|,9 7.7 参考文献 142 I!SIy&=W 8 典型的镀膜实例 143 reM~q-M~o@ 8.1 单层抗反射薄膜 145 !;P[Y"h@r 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 0A-yQzL| 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 l/"!}wF 8.4 W-膜层 148 7U^{xDg.b 8.5 V-膜层 149 H!Dj.]T 8.6 V-膜层高折射基底 150 mn*}U R 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 53d`+an2 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 IiJ$Ng 8.9 四层抗反射薄膜 153 sx]{N 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 1$`|$V1 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 pred{HEye 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 )rlkQ'DN 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 g"kET]KP" 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 /I{K_G@ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 )1gT&sU |