-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-12-12
- 在线时间1894小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
]DI%7kw' 内容简介 M V~3~h8 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 'zYx4&s 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 6am<V]Hw0F 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 `w%Qs)2 6$p6dmV| 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 @Y+9")? 目录 =OooTZb:x- Preface 1 $(pVE}J 内容简介 2 i7xBi:Si 目录 i N`5
mPE 1 引言 1 h)
W|~y@ 2 光学薄膜基础 2 =2, iNn 2.1 一般规则 2 2r#W#z%vS 2.2 正交入射规则 3 6 kAXE\T 2.3 斜入射规则 6 ?rgtbiSW- 2.4 精确计算 7 nnMRp7LQ- 2.5 相干性 8 i8`0- 2.6 参考文献 10 O@,9a~Ghd 3 Essential Macleod的快速预览 10 /??nOVvt 4 Essential Macleod的特点 32 h, P#)^" 4.1 容量和局限性 33 hdxq@%Vs 4.2 程序在哪里? 33 >3y:cPTM5 4.3 数据文件 35 Z<$y)bf 4.4 设计规则 35 Np R&`] 4.5 材料数据库和资料库 37 R"[U<^ 4.5.1材料损失 38 }e&Z"H | 4.5.1材料数据库和导入材料 39 -Deqlaf( 4.5.2 材料库 41 O.OSLezTQ 4.5.3导出材料数据 43 Y
f;Slps 4.6 常用单位 43 UoKXo*W2 4.7 插值和外推法 46 .V|o-~c 4.8 材料数据的平滑 50 ,c[f/sT\ 4.9 更多光学常数模型 54 N(L?F):fT 4.10 文档的一般编辑规则 55 3 3b 3v\N 4.11 撤销和重做 56 VAZ6;3@cd 4.12 设计文档 57 (T2\ 4.10.1 公式 58 qX!P:M 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ,$;pLjo6 4.10.3 沉积密度 59 ;bes#|^F 4.10.4 平行和楔形介质 60 ^EmI;ks 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 _tpqo> 4.10.4 性能 61 BFMINq> 4.10.5 保存设计和性能 64 Y@[Dy 4.10.6 默认设计 64 / FA0(< -} 4.11 图表 64 p*"H&xA@ 4.11.1 合并曲线图 67 <LA!L 4.11.2 自适应绘制 68 wx)Yl1C 4.11.3 动态绘图 68 \>r<z46x 4.11.4 3D绘图 69 D]$X@2A 4.12 导入和导出 73 *9xv0hRQ%? 4.12.1 剪贴板 73 g:CMIe4 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 UqsX@jL! 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ".T&nS[z 4.13 背景 77 cAc>p-y% 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 G,JNUok 4.15 生成Rugate 84 8^6dK 4.16 参考文献 91 @b"J FB| 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 )%]`uj>*[ 5.1 Jobs 92 Q{+N{/tF 5.2 创建一个新Job(工作) 93 uO;_T/^u 5.3 输入材料 94 8.4+4Vxh 5.4 设计数据文件夹 95 'J"m`a8no 5.5 默认设计 95 W4o$J4IX{ 6 细化和合成 97 8\@&~&(y: 6.1 优化介绍 97 =dTsGNz 6.2 细化 (Refinement) 98 e|jmOYWG 6.3 合成 (Synthesis) 100 6l-V%3- 6.4 目标和评价函数 101 CP!>V:w%9! 6.4.1 目标输入 102 BX=YS) 6.4.2 目标 103 T`.RP&2/d 6.4.3 特殊的评价函数 104 o>}fKg< 6.5 层锁定和连接 104 Foc) u~ 6.6 细化技术 104 beCTOmC 6.6.1 单纯形 105 ;OynkZs) 6.6.1.1 单纯形参数 106 n; fUwon 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 UN6Du\)]d 6.6.2.1 Optimac参数 108 a+Z95~*sZ" 6.6.3 模拟退火算法 109 'CSIC8M<j 6.6.3.1 模拟退火参数 109 }tRY,f 6.6.4 共轭梯度 111 P(#by{s 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 N]6M4j! 6.6.5 拟牛顿法 112 1rmK#ld"=Z 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ,/>hWAx 6.6.6 针合成 113 WYklS<B[ 6.6.6.1 针合成参数 114 {@8TGHKv 6.6.7 差分进化 114 %d/Pc4gfc 6.6.8非局部细化 115 'Bv)UfZ 6.6.8.1非局部细化参数 115 lYq4f|5H}m 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Z U^dLN-N 6.7.1 细化 116 <_~>YJ 6.7.2 合成 117 io{uN/!X_J 6.8 参考文献 117 1^4z/<ZWm 7 导纳图及其他工具 118 ni$S@0 7.1 简介 118 x{';0MkUV 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 U*sQYt<?g 7.2.1 四分之一波长规则 119 u79,+H@ep 7.2.2 导纳图 120 8NRc+@f|m 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 39(]UO6^; 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 /X_g[*]? 7.5 斜入射导纳图 141 bEJz>oyW" 7.6 对称周期 141 05cyWg9a 7.7 参考文献 142 J<4egk4 8 典型的镀膜实例 143 QXcSDJ 8.1 单层抗反射薄膜 145 #gL$~.1 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 & |