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YX19QG% 内容简介 5b%zpx0Y Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 w0$l3^}z 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 SLI358]$< 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ekO*(vQ~ _JXb|FIp 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 LQ=Fck~[r 目录 >?0 f>I%\ Preface 1 dG'5: ,n/ 内容简介 2 aW#_"Y}v' 目录 i @)m+b; 1 引言 1 VWcR@/3 2 光学薄膜基础 2 Cr%6c3aQ 2.1 一般规则 2 iC\t@BVS 2.2 正交入射规则 3 Xu&4|$wB+ 2.3 斜入射规则 6 qf6}\0
2.4 精确计算 7 <=7^D 2.5 相干性 8 KoO\<_@"; 2.6 参考文献 10 ]mmL8%B@_ 3 Essential Macleod的快速预览 10 YfOO]{x,X 4 Essential Macleod的特点 32 RBM4_L 4.1 容量和局限性 33 OgBZoTT 4.2 程序在哪里? 33 |&a[@(N:zf 4.3 数据文件 35 _ gi?GQj 4.4 设计规则 35 ,R;wk=k 4.5 材料数据库和资料库 37 a]|k w4 4.5.1材料损失 38 @Xe[5T 4.5.1材料数据库和导入材料 39 `jB2' 4.5.2 材料库 41 ce P1mO 4.5.3导出材料数据 43 I@9k+JB 4.6 常用单位 43 [sH[bmLR 4.7 插值和外推法 46 k!6wVJ|_Y 4.8 材料数据的平滑 50 )0NE_AZ? 4.9 更多光学常数模型 54 SvR? nN| 4.10 文档的一般编辑规则 55 k,nRC~Irh 4.11 撤销和重做 56 &-1;3+#w 4.12 设计文档 57 f;
1C) 4.10.1 公式 58 &MsBcP[ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ^atBf![ 4.10.3 沉积密度 59 xlWTHn!j 4.10.4 平行和楔形介质 60 O<v9i4* 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 RW.
>;|m 4.10.4 性能 61 Gd5J<K 4.10.5 保存设计和性能 64 (l3P<[[? 4.10.6 默认设计 64 sj?7}(s 4.11 图表 64 ]1<O [d 4.11.1 合并曲线图 67 @}cZxFQ!C 4.11.2 自适应绘制 68 ;{Kx$Yt+ 4.11.3 动态绘图 68 !xxu~j^T 4.11.4 3D绘图 69 e.IKmH]z 4.12 导入和导出 73 ]o]*&[C 4.12.1 剪贴板 73 )gR !G]Y 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ;eRYgC 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 q"[8u ]j 4.13 背景 77 ^l\^\>8 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 U:. 4.15 生成Rugate 84 =pP0dvn 4.16 参考文献 91 Q0j$u[x6s 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 V5{^R+_)Ya 5.1 Jobs 92 ;9R;D,Gk! 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ?#LbhO* 5.3 输入材料 94 &<E*W*b[ 5.4 设计数据文件夹 95 Ysk,9MR(F 5.5 默认设计 95 H `V3oS~} 6 细化和合成 97 Ibd
na9z7 6.1 优化介绍 97 5/O;&[l Yy 6.2 细化 (Refinement) 98
TVP.)% 6.3 合成 (Synthesis) 100 Vnv9<=R 6.4 目标和评价函数 101 ~agzp`!M 6.4.1 目标输入 102 $(6 .K-D 6.4.2 目标 103 6h|@Bz/A 6.4.3 特殊的评价函数 104 'MHbXFM 6.5 层锁定和连接 104 9s-op:5 6.6 细化技术 104 kgvB80$4 6.6.1 单纯形 105 x_oL~~@ 6.6.1.1 单纯形参数 106 Sh=Px9'i 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 siHS@S 6.6.2.1 Optimac参数 108 6"Km E} 6.6.3 模拟退火算法 109 w-%H\+J 6.6.3.1 模拟退火参数 109 u,e(5LU 6.6.4 共轭梯度 111 /IS
j0"/$ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 oO4
Wwi 6.6.5 拟牛顿法 112 bV#U&)| 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ^ )Lh5 6.6.6 针合成 113 K`nI$l7hg 6.6.6.1 针合成参数 114 ?5#Ng,8iT 6.6.7 差分进化 114 pH%cbBm 6.6.8非局部细化 115 uLsGb=m%b 6.6.8.1非局部细化参数 115 >Udb*76
D 6.7 我应该使用哪种技术? 116 #cBt@SEL' 6.7.1 细化 116 >69+e+|I 6.7.2 合成 117 Hb3+$vJ^ 6.8 参考文献 117 Eg"DiI)7 7 导纳图及其他工具 118 q9RCXo>Y+1 7.1 简介 118 ->oQ,ezB 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 yWACIaj 7.2.1 四分之一波长规则 119 g< |