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Essential Macleod中文手册》 `PtB2,? .jqil0#)Y" 目 录 Tdh.U{Nz Z72%Bv ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 qpe9?`vVX 第1章 介绍 ..........................................................1 V=+|]` 第2章 软件安装 ..................................................... 3 xI?'Nh 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ;hq_}. 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 h\@X!Z, 第5章 软件结构 ............................................................... 21 v1yB 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 >x6\A7 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 <Rw2F?S~)n 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Zc_F"KJL 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 )fXw ~ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 #@BhGB`9Qt 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 `Z>=5:+G@2 第12章 优化和综合 ..................................................................120 v2]N5 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 <(Ar[Rp 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 SHPDbBS 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 t&43)TPb. 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 3t9+Y dNKU 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 tE-bHu370 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 o<48' >[ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 .{t5_,P 第20章 运行表单 .................................................................... 251 -:_3N2U=+ 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 nnRb 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 bvB7d`wx 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 Mj>QV(L8t 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 x4kQG e( 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 '@KH@~OzRS 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 8SroA$^n 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ] rqx><!
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 6W YVHG :yJ#yad 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 l=P)$O|=w 3%9XJ]Qao 价 格:400元 F#9^RA)9 Es}`SIe/ 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 VgbT/v 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) ;8MQ'# +}udIi3:l 内容简介 a6h+?Q7uF Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 NoF|j57?u' 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 3dZj<(. 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Xajt][ KIY`3Fl09 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 _Ad63.Uq)) 目录 VPO~veQ Preface 1 ^ux'-/ 内容简介 2 &QQ6F>'T 目录 i @`B_Q v@ 1 引言 1 >f&L7@ 2 光学薄膜基础 2 TT;ls<(Lg 2.1 一般规则 2 { **W7\h 2.2 正交入射规则 3 &%(Dd 2.3 斜入射规则 6 I4qS8~+# 2.4 精确计算 7 h~%8p
] 2.5 相干性 8 )JyB 2.6 参考文献 10 W"\`UzOLQ 3 Essential Macleod的快速预览 10 3e-E/6zH6 4 Essential Macleod的特点 32 |DsT $~D 4.1 容量和局限性 33 op-\|<i 4.2 程序在哪里? 33 ql5&&e=- 4.3 数据文件 35 b O}&i3.L; 4.4 设计规则 35 hDg"?{ 4.5 材料数据库和资料库 37 'bH~KK5 4.5.1材料损失 38 Y0Tw:1a 4.5.1材料数据库和导入材料 39 qM3NQ8Rm 4.5.2 材料库 41 A^hafBa 4.5.3导出材料数据 43 )iC@n8f7o 4.6 常用单位 43 k=p[Mlic/ 4.7 插值和外推法 46 b
~]v'|5[ 4.8 材料数据的平滑 50 * _usVg 4.9 更多光学常数模型 54 gE*7[*2?t 4.10 文档的一般编辑规则 55 u^'X>n)oL# 4.11 撤销和重做 56 h{\S '8 4.12 设计文档 57 aS>cXJ;= 4.10.1 公式 58 >bmdu\j5R 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ;2?fz@KZ 4.10.3 沉积密度 59 GKUjtPu 4.10.4 平行和楔形介质 60 4kV$JV.l 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Ue`Y>T7+! 4.10.4 性能 61 kbH@h2Ww 4.10.5 保存设计和性能 64 N3KI6p6 \ 4.10.6 默认设计 64 5}5oj37x 4.11 图表 64 5TeGdfu @ 4.11.1 合并曲线图 67 g#1Y4 4.11.2 自适应绘制 68 ^)`e}} 4.11.3 动态绘图 68 mL#$8wUdt{ 4.11.4 3D绘图 69 X4'!:& 4.12 导入和导出 73 F]N?_ bo 4.12.1 剪贴板 73 fX\y/C 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Dequ' 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 eQ[}ALIq 4.13 背景 77 2zv:j7 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 tblduiN 4.15 生成Rugate 84 V4n;N 4.16 参考文献 91 n8\88d 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 v/v PU 5.1 Jobs 92 Ui1s]R 5.2 创建一个新Job(工作) 93 d|W=_7z 5.3 输入材料 94 @S5HMJ2= 5.4 设计数据文件夹 95 {od@Sl 5.5 默认设计 95 ]j*uD317 6 细化和合成 97 -V"W 6.1 优化介绍 97 jWvi%Iqi 6.2 细化 (Refinement) 98 9`^(M^|c 6.3 合成 (Synthesis) 100 k3Puq1H 6.4 目标和评价函数 101 +RiI5.$=Z 6.4.1 目标输入 102 f4f)9n 6.4.2 目标 103 NP4u/C< 6.4.3 特殊的评价函数 104 c|k(_#\B 6.5 层锁定和连接 104 2o1WXE %$ 6.6 细化技术 104 VT~%);.# 6.6.1 单纯形 105 `6# s+JA[ 6.6.1.1 单纯形参数 106 +T,A^(&t 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ])?h~
6.6.2.1 Optimac参数 108 3U!=R- 6.6.3 模拟退火算法 109 7.)_H 6.6.3.1 模拟退火参数 109 O OABn* 6.6.4 共轭梯度 111 79o=HiOF99 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 7>0/$i#'Vl 6.6.5 拟牛顿法 112 /Ah'KN|EN 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 wQ9@
l 6.6.6 针合成 113 |]Hr"saO0 6.6.6.1 针合成参数 114 v:w^$]4 6.6.7 差分进化 114 X1[zkb 6.6.8非局部细化 115 TnKOr~ @* 6.6.8.1非局部细化参数 115 cBOt=vg,5 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Be^"sC 6.7.1 细化 116 E]a;Ydf~ 6.7.2 合成 117 xwHE,ykE 6.8 参考文献 117 :hWG:` 7 导纳图及其他工具 118 xh25 *y 7.1 简介 118 #i*PwgC%_ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 |942#rM 7.2.1 四分之一波长规则 119 bTAY5\wB 7.2.2 导纳图 120 Yn?Xo_Y 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ]ab q$Y' 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 *Utx0Me 7.5 斜入射导纳图 141 Tfv@oPu 7.6 对称周期 141 J*6B~)Sp@ 7.7 参考文献 142 _~P&8 8 典型的镀膜实例 143 pbwOma2 8.1 单层抗反射薄膜 145 &t |