?[Xv(60] 复杂
光学光栅结构被广泛用于多种应用,如
光谱仪、近眼显示
系统等。利用傅里叶模态法(FMM,或称RCWA) VirtualLab Fusion 提供了一种用于任意光栅结构严格分析的简单方法。利用图形用户界面,用户可以设置堆栈的几何形状,从而产生复杂的光栅结构。本案例主要集中于具有二维周期光栅结构的配置。
TqK`X#Zq
l;$HGoJ 1. 本案例主要说明:
_1[5~Pnh 如何在光栅工具箱中配置二维光栅结构,通过:
j`1%a]Bwc - 基于介质的定义类型
xMI4*4y( - 基于表面的定义类型
@]u nqCO 计算前如何改变高级选型并检查定义的结构。
yLFc?{~7 注意:在VirtualLab中,具有二维周期性的光栅结构称作3D光栅。因此,层状光栅(一维光栅)被称为2D光栅。
CSx V^ D2x-Wa 2. 光栅工具箱初始化 Q/ rOIHiI 初始化
~0 <?^ - 开始→
j!9p#JK#u 光栅→
@O b$w1c 一般光栅光路图(3D光栅)
r(./ 00a e_6VPVa
\vbU| a 注意:对于特殊类型的光栅,如柱状光栅,可以直接选择特定的光路图。
l@vau pg dXgj 3. 光栅结构配置 e
W&;r&26 首先,必须先定义基底的厚度与
材料 Eh\0gQ= 在VirtualLab中,光栅结构有一个所谓的堆栈进行定义
T-pes1Wu 堆栈可以附属在基底的一侧或两侧。
)`?Es8uW 例如,堆栈选择附属在第一表面。
KWIH5* AM
U%3d_"{; 基于介质的定义类型 :eqDEmr> (例如:柱状光栅)
NqcmjHvy 1. 堆栈编辑器
a]^hcKo4 在堆栈编辑器中,可以从库中增加和插入界面和介质。
fNOsB^Y 为了以特殊材料定义光栅,必须添加两个平面界面作为边界。
/7#KkMg mB&nN+MV
t?H.M =pQA!u]QE 两个平面界面间的介质可以使均匀的,也可以是调制的。
%O-RhB4q 通过使用后者,可以非常有效地描述复杂的光栅结构,如柱状光栅。、
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N=hr%{}c g'G% BX 2. 柱状光栅介质 vq yR aaMf 在库目录“LightTrans Defined”中,在柱状介质库中可以找到铬柱。
`k ~.># 这种类型的介质可以
模拟柱状结构以及衬底上的销孔。
~qe9U 0
| _/D-m* 在本例中,由铬组成的矩形柱位于熔融石英基底上
(as'(+B 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。
VP^Yph 8R 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。
a86m?)-c 请注意:界面的顺序总是从基板的表面开始计算。
t]1j4S"pm 选中的界面以红色高亮显示。
hM 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。
|}zv CD
idiJ|2T"G 可以在光学设置编辑器中更改此材料。
QA_SS'* u=B_c A}:
z^=.05jB 堆栈周期允许控制整个配置的周期。
Zj;2> 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。
?d`?Ss;v 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。
yIC.JmD*
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3. 柱状光栅介质参数 u,<I% 通过以下参数定义柱状光栅:
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r:.5O F} 基材(凹槽的介质)
*yp}#\rk 柱状材料(脊的材料)
AD$k`Cj 柱的形状(矩形或椭圆形)
Iw(2D(se x方向(水平方向)柱距
h*2Q0GRX y方向(垂直方向)柱距
e;8>/G 行移(允许行位移)
jSbO1 go# 光栅周期在x和y方向
gzqx{ ]
pC,MiV$c" 根据柱栅的尺寸和距离自动计算柱栅的周期。
}5dYmny 因此,它不能单独设置,框显示为灰色。
Y~]E6'Bz
cF{5[?wS -.ITcDg 4. 高级选项&信息 )2T?Z)"hO 在传播菜单中有几个高级选项可用。
bv$g$ propagation method选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。
Hb5^+.xur 可以设置每个方向上考虑的总阶数或倏逝波阶数。
q)R&npP7 这可能是有用的,尤其是如果考虑金属光栅。
lV!ecJw$
P1DYjm[+D 相反,对于电介质光栅,默认设置就足够了。
xXQ#?::m Advanced Settings选项卡提供关于结构分解的信息。
'T@K$xL8 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散性。默认设置适用于几乎所有光栅结构。
t{?U NW
8mTjf Br 此外,还提供了关于层数和转换点的信息。
8XtZF,Du 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述。折射率用色标表示。
q:Gi
Qk- 定义的柱栅分解预览(俯视图)。
xEtzqP<] •VirtualLab建议将其离散化为2层(1层表示基底)。
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FGIAM B6~a `~"
vH_QSx;C# 基于界面的定义类型 5`,qKJ (例如:截锥光栅)
PY7j uS[+ 1. 堆栈编辑器
D*3\4=6x
i/QE)"B"q 2. 截锥光栅 ]5IG00` 在本例中,使用了“截锥光栅界面”。
D%k%kg0, 这种类型的界面可以模拟圆形的高透射结构。
kSGFLP1FN 在本例中,锥体是由位于同一材料基体上的熔融二氧化硅制成的。
[O*5\&6
FEgM4m.(G< 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。
lot7S XvK 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。
*njdqr2c~ 请注意:界面的顺序总是从基底的表面开始计算。
cl4`FU 选中的界面以红色高亮显示。
s6SG%Vd 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。
J$6tCFD 这种材料可以在光学设置编辑器中更改。
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tcOgF: 此外,锥体的材料会自动从界面之后的材料中取出。
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d 在本例中,这意味着使用基底(基块)的材料。
QXx<Hi^ / 如果光栅结构是由不同的材料制成的,则必须添加额外的平面界面,以便将光栅结构与底座分离。
j|3p.Cy 然后根据需要选择截锥与平面界面之间的材料。
fis**f0 堆栈周期允许控制整个配置的周期。
xZAc~~9tD 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。
JmB7tRM8 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。
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