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华为EUV光刻新专利:解决相干光无法匀光问题
华为EUV光刻新专利:解决相干光无法匀光问题
发布:
cyqdesign
2022-11-19 18:20
阅读:
2208
据报道,华为周二公布了一项新
专利
,展示了一种《反射镜、光刻装置及其控制方法》,而这种方法便能够解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题,在极紫外光的光刻装置基础上进行了
优化
,进而达到匀光的目的。
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图片:4bed2e738bd4b31c27af39bf15776f749f2ff854.jpg
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专利名称:反射镜、光刻装置及其控制方法
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专利申请号:CN202110524685.X
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