高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
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J%Mnjk^_\S S~3\3qt$ 2. 建模任务 ]sj0~DI*m
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K]fpGo rWQY?K@ 3. 概述 }1 QF+Cf Fr5 Xp "!Lkp2\ 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 saW!9HQj 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
t;47(U u~F~cDu
v0@)t&O R1%y]]*-P 4. 光线追迹仿真 Qn=$8!Qqa s".HEP~]= 1`-r#-MGG 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
NL!9U,h5| 点击“Go!”。
Mqv[XHfB 随即获得3D光线追迹结果
nPA@h Q_O*oT(0
nvyB/ T20VX 8gX 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。
)`?%]D 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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#jS[ 5. 场追迹仿真 %Kto.Xq DWf$X1M 5 DFZ^~ 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
<z) E(J\ 点击“Go!”。
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3f&|h^\nD NP_?f%( 6. 场追迹结果(相机探测器) |4C^$ I>"Ci(N =2 jhII 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
~&g a1r2v? 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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~UPZ< 7. 场追迹结果(电磁场探测器) u$\a3yi 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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