U9#WN.noG w^o}E)O 内容简介 a)9rs\Is{ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
5@P-g 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
te'*<HM 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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;fGx;D
'm O2t~n 8#59iQl 目录 R0<< f] Preface 1
J&6:d 内容简介 2
HC7JMj 目录 i
Z;b+>2oL 1 引言 1
<LA^%2jT 2 光学薄膜基础 2
\+Y!ILOI 2.1 一般规则 2
.mPg0 2.2 正交入射规则 3
\!H{Ks{#R. 2.3 斜入射规则 6
rAXX}"l6s 2.4 精确计算 7
^\wl2 2.5 相干性 8
=!,Gst_ 2.6 参考文献 10
jO)&KEh 3 Essential Macleod的快速预览 10
?63&g{vA 4 Essential Macleod的特点 32
Coa -8j*R7 4.1 容量和局限性 33
@G GccF 4.2 程序在哪里? 33
l`gTU?<xd 4.3 数据文件 35
5I,$EGG 4.4 设计规则 35
;[6&0!N\ 4.5 材料数据库和
资料库 37
vv/J 5#^,\ 4.5.1材料损失 38
hI~SAd
,#A 4.5.1材料数据库和导入材料 39
~7SH4Cr 4.5.2 材料库 41
&KqVN]1+^ 4.5.3导出材料数据 43
+t]Xj1Q 4.6 常用单位 43
U:lv^QPG 4.7 插值和外推法 46
nq;#_Rkr 4.8 材料数据的平滑 50
z[&s5" 4.9 更多光学常数模型 54
qY(:8yC36 4.10 文档的一般编辑规则 55
r4eUZ .8R 4.11 撤销和重做 56
9?`RR/w 4.12 设计文档 57
qm(1:iK,0 4.10.1 公式 58
i'tp1CI 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
OVs wt 4.10.3 沉积密度 59
=B(mIx;m 4.10.4 平行和楔形介质 60
xm H-!Da 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
#*,sa 4.10.4 性能 61
h~miP7,c<u 4.10.5 保存设计和性能 64
Dip*}8$o(w 4.10.6 默认设计 64
`WlE|
G[ 4.11 图表 64
4}yE+dRUK: 4.11.1 合并曲线图 67
H_B~P%E@] 4.11.2 自适应绘制 68
q)iTn)Z! 4.11.3 动态绘图 68
3] 76fF\^[ 4.11.4 3D绘图 69
H(qm>h$bU 4.12 导入和导出 73
<qY5SV, 4.12.1 剪贴板 73
QN
G& 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
6Rz[?-mkLO 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
r
nBOj#N 4.13 背景 77
R&So4},B 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
DO^y;y> 4.15 生成Rugate 84
aRwnRii 4.16 参考文献 91
Ew4g'A:H 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
C\Ayv)S#2 5.1 Jobs 92
Hj~O49%j& 5.2 创建一个新Job(工作) 93
Lq04T0 5.3 输入材料 94
Q}P-$X+/ n 5.4 设计数据文件夹 95
E`AYee%l 5.5 默认设计 95
e@jfIF0=} 6 细化和合成 97
;~/4d- 6.1 优化介绍 97
4lz{G*u 6.2 细化 (Refinement) 98
0IzZKRw 6.3 合成 (Synthesis) 100
l$XA5#k
6.4 目标和评价函数 101
-g~~] K% 6.4.1 目标输入 102
\4s;!R! 6.4.2 目标 103
]Oso#GYD 6.4.3 特殊的评价函数 104
T[2}p=<% 6.5 层锁定和连接 104
4/MNqit+ 6.6 细化技术 104
#s+Q{2s 6.6.1 单纯形 105
tWk{1IL 6.6.1.1 单纯形
参数 106
gaeOgP.0 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
r/AHJU3&eY 6.6.2.1 Optimac参数 108
+X^4;
& 6.6.3 模拟退火算法 109
D 'L{wm 6.6.3.1
模拟退火参数 109
)w"0w( 6.6.4 共轭梯度 111
)iSy@*nY 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
Kbas-</Si 6.6.5 拟牛顿法 112
j=j+Nf$ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
\cZfg%PN 6.6.6 针合成 113
Z[}
$n-V 6.6.6.1 针合成参数 114
295w.X(J 6.6.7 差分进化 114
'h}7YP, w 6.6.8非局部细化 115
OCW+?B; 6.6.8.1非局部细化参数 115
B||c(ue 6.7 我应该使用哪种技术? 116
x!?Z*v@I 6.7.1 细化 116
t!jwY /T 6.7.2 合成 117
O5;-Om 6.8 参考文献 117
]kS7n@8 7 导纳图及其他工具 118
pUL sGb 7.1 简介 118
u(hC^T1 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
a:u}d7T3e 7.2.1 四分之一
波长规则 119
h7?.2Q&S 7.2.2 导纳图 120
hTTfJDF 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
,so4Lb(vG 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
Wc;+2Hl[@ 7.5 斜入射导纳图 141
8]C1K
Zs 7.6 对称周期 141
kCp)!hVQ 7.7 参考文献 142
/=ylQn3
* 8 典型的镀膜实例 143
p7UTqKi 8.1 单层抗反射薄膜 145
wLMvC{5 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
$L&BT 0 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
f)^t') 8.4 W-膜层 148
evOb 8.5 V-膜层 149
+/q0Y`v 8.6 V-膜层高折射基底 150
/*P7<5n0 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
qLRE}$P 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
b *9-}g: 8.9 四层抗反射薄膜 153
O+FBQiv 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
vYzVY\ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
b42QBTeg 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
RbAt3k;y 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
/q*KO\L 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
IMaYEO[ 8.15十五层宽带抗反射膜 159
Wp4K6x 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
d*%Mv[X:<