在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个
图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。
G,e>dp_cPu DKAqQ?fS v9(->X' 'xm _oGWE 建模任务 #Sr_PEo
_ rJ4O_a5/ ]vMr@JM-G 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
U,yU-8z/ y~w2^VN= 某一位置的Talbot图样 ZMy0iQ@
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X#j-Ld{j rP>iPDf 某一位置的Talbot图样 4P(Y34j
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A,{X<mLFb 2--"@@ 不同位置的Talbot图样 a?/GEfd
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R"EX$Zj^E .8S6;xnkC 不同位置的Talbot图样 t&T0E.kh*X
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(|I:d!>:U \/g.`Pe 沿Z轴的强度 &u( eu'Q3
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光栅结构 U~n>k<`sr ,)e&u1' \Z-T)7S XW
w=3$ 通过参数运行计算不同位置的强度
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