[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 <SiD m-=E  
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场景 TTg>g~t`  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 ZTCzD8  
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系统构建块 l `D>h2]  
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组件求解器 
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E)eRi"a46  
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系统构建块 ./_o+~\e'  
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总结 PJC[#>}  
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# 2As-9  
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几何光学仿真 zYf`o0U  
    通过光线追迹 A;e[-5@  
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结果：光线追迹 ;#np~gL  
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快速物理光学仿真 ld~8g,  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 hZ0p /Bdv  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 xPa>-N=*  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 NTRw:'  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 zV)Ob0M7U  
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总结 Fs q=u-= :  
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