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    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-26
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    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 D!LX?_cD1i  
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    F[`ZqW  
    场景  _^t-9  
    H AB#pd9  
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    )Hw:E71h2  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 _YHu96H;  
    GG6% bF  
    系统构建块 yJ2B3i@T 4  
    E;(Rm>lB  
    m7|RD]q&  
    Ca>&  
    组件求解器 /2uQCw&x-  
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    GH4iuPh]  
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         9s$U%F6}  
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    系统构建块 t}p@:'  
    +C{p%`<  
     6LUC!Sh  
    `sHuM*  
    总结 r0dDHj~F  
    <,%:   
    ?pGkk=,KB  
         &*,:1=p  
    几何光学仿真 '\DSTr:N  
        通过光线追迹 z4U9n'{  
    d5j_6X  
    结果：光线追迹 Ukphd$3J=  
    %Kb9tHg  
    df*w>xS  
    x K%=  
    快速物理光学仿真 d+L#t  
        通过场追迹 |QZ 58)>  
    j ) vlM+  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ZU&"73   
    BN_7Ay/k  
    ZU2laqa_  
    '?*g%Yuz  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 dKhA$f~  
    M^madx6`  
    f^<6`Aeq  
    *JCQu0  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 .V'V:;BE%  
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    3TuC+'`G  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 UHO_Z  
    VV_l$E$  
     c@m5 ~  
    Ze^jG-SL$9  
    总结 L#h:*U{@40  
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    |FR3w0o  
      
     
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