[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 n$IWoIdbGN  
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场景 \)p4okpR  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 9)jo7,VM  
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组件求解器 3L?WTS6(u  
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几何光学仿真 M|1eqR%x-?  
    通过光线追迹 t^`<*H  
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结果：光线追迹 (K^YD K  
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快速物理光学仿真 2q2p=H>&  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 HR/k{"8W4Q  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ~5-~q0Ge  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 sV9{4T~#|  
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