[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 -^"?a]B  
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场景 OyZ>R~c'B  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 IsL/p3|  
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系统构建块 h"
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组件求解器 Ro$XbU)  
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系统构建块 U\6DEnII?!  
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总结 v[GHqZ  
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几何光学仿真 |XZf:}q5:  
    通过光线追迹 "TI? qoz  
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结果：光线追迹 ?Fv(4g  
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快速物理光学仿真 (#lS?+w)  
    通过场追迹 OwUbm0)h^V  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 nX'.'3  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 hI0l2OE  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 *1Q?~  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 6yqp<D0SP)  
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总结 7 pV3#fQ  
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