[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

c?(4t67|  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 du $:jN\}  
jnkR}wAA  
bQzZy5,  
场景 2prU  

@+&LYy72  
P>y@kPi  
bWjc'P6rx  
在VirtualLab Fusion中构建系统 Q
GMV}y  
pQyK={7?`  
系统构建块 e[{0)y>=  
S*,17+6dV  
gldAP:  
+C^nO=[E  
组件求解器 Z\(q@3C  
iQ0KfoG?U  
=}<IfNA  
     [$ubNk;!z  
     #>a\>iKQ2q  
     bt@< ut\  
系统构建块 ")1:F>  
vSGH[nyCY  
i7CX65&b  
H9Gh>u]}  
总结 PF0_8,@U  
+N]J5Ve-`t  
/m!BY}4W  
     .97])E[U  
几何光学仿真 =bAx,,D#  
    通过光线追迹 vRTkgH#4l  
1>.Ev,X+e  
结果：光线追迹 WSPI|#Xr%  
8$]1M,$r  
O"+gQXe  
bS{bkE>  
快速物理光学仿真 `{8K.(])s!  
    通过场追迹 h<h%*av|  
]HbY  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #]-SJWf3  
b3P+H r  
p0]=QH  
2/U.|*mH  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ;t)
3F  
3h]g}&k  
Mg+2. 8%  
`T1  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 V~qNyOtA]  
pP1|&`}ux  
gZV
c 5u<  
     \a<wKTkn  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 s$IDLs,WM  
RCJ|P~*  
U
k
lUw  
)J=!L\  
总结 \-E^lIVF  
>:SHV W  
J@`1TU