我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维结构

最新评论

谭健 2022-09-16 13:54

科技飞速发展

谭健 2022-09-16 13:55

光电芯片制造领域的突破

戴子 2022-09-16 14:12

光电芯片制造从传统的 1 微米量级（相当于头发丝的五十分之一），首次缩小到纳米级，达到 30 纳米。 W(jP??up  

wmh1985 2022-09-16 15:02

据南京大学微信公众号消息，9月14日夜，国际顶级学术期刊《自然》发表了南京大学张勇、肖敏、祝世宁领衔的科研团队在下一代光电芯片制造领域的重大突破。科研团队发明了一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术，将飞秒脉冲激光聚焦于材料“铌酸锂”的晶体内部，通过控制激光移动的方向，在晶体内部形成有效电场，实现三维结构的直写和擦除。这一新技术，突破了传统飞秒激光的光衍射极限，把光雕刻铌酸锂三维结构的尺寸，从传统的 1 微米量级（相当于头发丝的五十分之一），首次缩小到纳米级，达到 30 纳米，大大提高了加工精度。 jfsbvak  

戴子 2022-09-16 15:43

科研团队发明了一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术，将飞秒脉冲激光聚焦于材料“铌酸锂”的晶体内部，通过控制激光移动的方向，在晶体内部形成有效电场，实现三维结构的直写和擦除。

wangjin001x 2022-09-16 17:57

我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维结构

谭健 2022-09-16 19:16

重大突破 DXc3u^
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jeremiahchou 2022-09-16 19:47

科研团队发明了一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术，将飞秒脉冲激光聚焦于材料“铌酸锂”的晶体内部，通过控制激光移动的方向，在晶体内部形成有效电场，实现三维结构的直写和擦除。这一新技术，突破了传统飞秒激光的光衍射极限，把光雕刻铌酸锂三维结构的尺寸，从传统的 1 微米量级（相当于头发丝的五十分之一），首次缩小到纳米级，达到 30 纳米，大大提高了加工精度。 )%=oJ!)  
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这一重大发明，未来或可开辟光电芯片制造新赛道，有望用于光电调制器、声学滤波器、非易失铁电存储器等关键光电器件芯片制备，在 5G / 6G 通讯、光计算、人工智能等领域有广泛的应用前景。

xjz0203 2022-09-16 20:33

光电芯片制造领域的突破

jabil 2022-09-16 20:46

Nice information