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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    JYV\oV{  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 F7T E|LZ  
    io2@}xZF  
    Gw{+xz KJ  
    ao$):,2*  
    设计任务 h0Jl_f#Y  
    N09KVz2Q  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 xNX'~B^4d  
    X NE+(Bt  
    8l23%iWxe  
    QNArZ6UQ  
    光栅级次分析模块设置 1lcnRHO  
                           kA^A mfba  
    J=*K"8Qr  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 aZKXD! 4  
    ^|?1_r  
    nxQ}&n  
    !SF^a6jT  
    Yy h=G  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 M|r8KW~S)  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 fsvYU0L  
    qq;b~ 3 kW  
    I4il R$jg  
    衍射分束器表面 31}W6l88c  
    /U*yw5  
    "={L+di:M  
    f#P_xn&et  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。  $Nu)E  
    u D(t`W"  
    L~eAQR  
    |zpx)8Q  
    m r4b  
    ~/|zlu*jpc  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) r1Z<:}ZwK  
    % {Q-8w!  
    D{C:d\ e)$  
    JJ5C}`(  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 (q~0XE/ a  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 lIh[|]  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 wL2XNdo}<  
    ,4Y*:JU4  
    QlD6i-a  
    Q4wc-s4RN  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 *48IF33&s  
    ` X}85  
    HmV /> 9  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 o:UXPAj  
    &p"(-  
    <zfKC  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 a+?~;.i~  
    %MJ;Q?KB  
    HarFE4V  
                设计与评估结果            相位功能设计 T~s}Nx#  
                结构设计TEA评价 <xn;bp[  
    FMM评估            高度标度(公差) BXhWTGiG  
    U8O(;+  
    通用设置 Qb`C)Nh:  
    M!{'ED  
    m;/i<:`  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 x~/+RF XF  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 &qRJceT(  
    DJP 6TFT&G  
    纯相位传输设计 ;&?pd"^<_Z  
    9;KJr[FQV  
    daX*}Ix  
    \##`pa(8  
    结构设计 @J vZ[T/  
    2c:f<>r0y  
    ]}LGbv"`A  
    Ze ? g  
    ~ FUa: KYD  
            更深的分析 K t `  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 !k<:k "7  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 n`L,]dco  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 i2`0|8mw'  
    ^M|K;jt>  
    3s(Ia^  
    8A{6j  
    使用TEA进行性能评估 X~RH^VYv  
    rt b*n~  
    2u:4$x8  
    "=|t~`  
    使用FMM进行性能评估 +LzovC@^  
    yFM>T\@  
    JSW&rn  
    2Q ayM?k8  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 2)\vj5<~$  
    MF.[8Zb  
    59!)j>f  
    h&'=F)5  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 vJC f~'  
    o3h-=t  
    0kLEBoOh  
    <_:zI r,  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 BaL]mIx  
    Z> 74.r  
     
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