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/8O;Q~a 内容简介 `9`T,uJe Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /)J]m 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 t_"]n*zk1 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 %E"dha JY lzbAx 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 lD-HQd 目录 =M],5<2; Preface 1 ]r(&hqdR 内容简介 2 \c\z 6;j 目录 i (7 O?NS 1 引言 1 0F-%C>&g 2 光学薄膜基础 2 0%
zy 6{ 2.1 一般规则 2 kQ99{lH,5 2.2 正交入射规则 3 |44 E:pA 2.3 斜入射规则 6 B1k;!@@14 2.4 精确计算 7 Koi-b 2.5 相干性 8 s= bP@[Gj 2.6 参考文献 10 ec&K}+p@ 3 Essential Macleod的快速预览 10 d "%6S*dL 4 Essential Macleod的特点 32 WzqYBa 4.1 容量和局限性 33 (&!x2M 4.2 程序在哪里? 33 <i ";5+ 4.3 数据文件 35 K}(@Ek 4.4 设计规则 35 j2`%sBo 4.5 材料数据库和资料库 37 8zrLl:{ 4.5.1材料损失 38 y[DS$>E 4.5.1材料数据库和导入材料 39 % pQi}x 4.5.2 材料库 41 W690N&Wz 4.5.3导出材料数据 43 ~[Z,:=z 4.6 常用单位 43 DR(/|?k+ 4.7 插值和外推法 46 giHWC%/ 4.8 材料数据的平滑 50 eE5j6`5i 4.9 更多光学常数模型 54 V|vXxWm/ 4.10 文档的一般编辑规则 55 ]-{A"tJ 4.11 撤销和重做 56 D}OhmOu3 4.12 设计文档 57 >9Z7l63+} 4.10.1 公式 58 2v`Q;%7O 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 K)#6&\0tT 4.10.3 沉积密度 59 BV)) #D9 4.10.4 平行和楔形介质 60 !7n`-#) 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 |lMc6C 4.10.4 性能 61 7_~_$I~g* 4.10.5 保存设计和性能 64 z#GrwE,r 4.10.6 默认设计 64 sf Zb$T
J 4.11 图表 64 Wg=q lux- 4.11.1 合并曲线图 67 6 2LLfD 4.11.2 自适应绘制 68 rCd*'Qg 4.11.3 动态绘图 68 F13vc~$Ky 4.11.4 3D绘图 69 [e7nW9\l 4.12 导入和导出 73 Lt_A& 4.12.1 剪贴板 73 fbW<c`L H 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 2.
f8uq 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 w,-4A
o2x 4.13 背景 77 NL-V",gI-~ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 J]5ZWo% 4.15 生成Rugate 84 ,!QtViA7 4.16 参考文献 91 /pL'G` 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 FVWHiwRU, 5.1 Jobs 92 3oMa 5.2 创建一个新Job(工作) 93 SedVp cb+ 5.3 输入材料 94 V)c.AX5 5.4 设计数据文件夹 95 Qov*xRO6 5.5 默认设计 95 %+oV-o\ #A 6 细化和合成 97 XB<Q A>dLh 6.1 优化介绍 97 oA+'9/UY 6.2 细化 (Refinement) 98 *})Np0k 6.3 合成 (Synthesis) 100 0QY9vuhL< 6.4 目标和评价函数 101 ^+}~"nvD 6.4.1 目标输入 102 9>/:c\q+ 6.4.2 目标 103 wPvYnhr|G- 6.4.3 特殊的评价函数 104 +@dgHDJ 6.5 层锁定和连接 104 $pajE^d4V 6.6 细化技术 104 p7Z/%~0v: 6.6.1 单纯形 105 CcZM0 6.6.1.1 单纯形参数 106 XnB-1{a1 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 g^)) 6.6.2.1 Optimac参数 108 co*XW 6.6.3 模拟退火算法 109 KeWIC,kq 6.6.3.1 模拟退火参数 109 P,)\#([vc 6.6.4 共轭梯度 111 QPX3a8w* 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 =a 6e*f 6.6.5 拟牛顿法 112 &R3#? 1, 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 >NZJ-:t 6.6.6 针合成 113 d5'4RYfkQ 6.6.6.1 针合成参数 114 +TN*6V{D 6.6.7 差分进化 114 8u"HW~~= 6.6.8非局部细化 115 6|Xm8,]yRw 6.6.8.1非局部细化参数 115 Hlz$@[$ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 $1n\jN 6.7.1 细化 116 Wql,*| 6.7.2 合成 117 v[~Q 6.8 参考文献 117 ,f$ftn\~j/ 7 导纳图及其他工具 118 W];l[D<S* 7.1 简介 118 T^S$|d 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 6*s:I& |