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2022新书强烈推荐 J2xw) + xk5@d6Y{r 内容简介 L"4mL, Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 g9Xu@N;bL 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 vPTM 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 lY?QQ01D <4g{ fT0 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 sE Q=dcK 目录 EkjN{$* Preface 1 8L:ji," 内容简介 2 4O )1uF; 目录 i 1Y7Eajt-5 1 引言 1 {^7Hgg 2 光学薄膜基础 2 P'Ux%Q+B> 2.1 一般规则 2 j)/nKh4O 2.2 正交入射规则 3 opy("qH 2.3 斜入射规则 6 PE3vQH=t~ 2.4 精确计算 7 d\R,Q 2.5 相干性 8 ,0~n3G 2.6 参考文献 10 Wp!%-vzy& 3 Essential Macleod的快速预览 10 8T!+ZQAz 4 Essential Macleod的特点 32 B1>/5hV} 4.1 容量和局限性 33 !`,Sfqij 4.2 程序在哪里? 33 g" .are'7 4.3 数据文件 35 IDB+%xl#S 4.4 设计规则 35 34%RZG_o' 4.5 材料数据库和资料库 37 ;U.hxh;+ 4.5.1材料损失 38 ;h*K }U 4.5.1材料数据库和导入材料 39 i*Sqd a
$ 4.5.2 材料库 41 LE9(fe) fe 4.5.3导出材料数据 43 B"TAjB&
* 4.6 常用单位 43 UQC=g 4.7 插值和外推法 46 7b;I+q 4.8 材料数据的平滑 50 UBaAx21x 4.9 更多光学常数模型 54 B&[M7i 4.10 文档的一般编辑规则 55 kt["m. 4.11 撤销和重做 56 =}DR)
9 4.12 设计文档 57 LWz&YF#T- 4.10.1 公式 58 =/y]d<g 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 LYz.Ci} 4.10.3 沉积密度 59 Z{ X|6. 4.10.4 平行和楔形介质 60 {B?Wu3- 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 bzuEfFaL 4.10.4 性能 61 WaVtfg$! 4.10.5 保存设计和性能 64 |
r&k48@ 4.10.6 默认设计 64 &eCa0s?mI 4.11 图表 64 z$/_I0[ 4.11.1 合并曲线图 67 R`DKu= 4.11.2 自适应绘制 68 beRVD>T 4.11.3 动态绘图 68 ;CmS ~K: 4.11.4 3D绘图 69 \{Z;:,S 4.12 导入和导出 73 %)|9E>fP]N 4.12.1 剪贴板 73 4E]l{"k< 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 5q;GIw^L 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 TDFkxB> 4.13 背景 77 toya fHf 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 kb{]>3Y" 4.15 生成Rugate 84 q Gw -tPD< 4.16 参考文献 91 }Qip&IN 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 g`vny )\7/ 5.1 Jobs 92 ;#xmQi'` 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ^;Y|3)vvB 5.3 输入材料 94 jkiFLtB@V 5.4 设计数据文件夹 95 % NA9{<I 5.5 默认设计 95 8S mCpg 6 细化和合成 97 tD(7^GuR 6.1 优化介绍 97 =vDEfO/T 6.2 细化 (Refinement) 98 !`g~F\l 6.3 合成 (Synthesis) 100 <lw`
3aa( 6.4 目标和评价函数 101 aY'C%^h] 6.4.1 目标输入 102 4)h]MOZ 6.4.2 目标 103 B$ajK`x&I 6.4.3 特殊的评价函数 104 >/kcdWl 6.5 层锁定和连接 104 Ljxz.2LGr 6.6 细化技术 104 ~]pE'\D7Ad 6.6.1 单纯形 105 CFzNwgv]z 6.6.1.1 单纯形参数 106 Rot@x r7Hc 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ~$:|VHl 6.6.2.1 Optimac参数 108 q>$ev)W 6.6.3 模拟退火算法 109 L+Xc-uv["p 6.6.3.1 模拟退火参数 109 7'Zky2F
6.6.4 共轭梯度 111 NdtB1b 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 !sDh4jQ` 6.6.5 拟牛顿法 112 {QHVo# 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 3L833zL 6.6.6 针合成 113 t2F_uCr 6.6.6.1 针合成参数 114 x }\64 6.6.7 差分进化 114 42e|LUZg 6.6.8非局部细化 115 [ oL.+ 6.6.8.1非局部细化参数 115 !46RGU:I 6.7 我应该使用哪种技术? 116 \m7-rV6r 6.7.1 细化 116 3nT^?;- 6.7.2 合成 117 "!Uqcay- 6.8 参考文献 117 E*.{=W }C 7 导纳图及其他工具 118 i]Fp..`v~ 7.1 简介 118 K/tRe/t} 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 4}_j`d/8| 7.2.1 四分之一波长规则 119 NO|KVZ~ 7.2.2 导纳图 120 lD^]\;? 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 LR.Hh 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 T]t+E'sQ 7.5 斜入射导纳图 141 pP*zq"o 7.6 对称周期 141 L\)ZC 7.7 参考文献 142 Kqp(%8mf 8 典型的镀膜实例 143 <j&DK2u=i 8.1 单层抗反射薄膜 145 LJk@Vy <? 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 %X4xv_o`f 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 W3IpHV 8.4 W-膜层 148 c(:f\Wc3Z 8.5 V-膜层 149 q*\x0"mS/ 8.6 V-膜层高折射基底 150 U}6.h&$ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 8TGOx%}i 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 qUjmB sB 8.9 四层抗反射薄膜 153 @y='^DQ* 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 }Mf!-g 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ;i
Fz?d3; 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 {Or; 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 0'V5/W 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 3Mxp)uG/ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 f|h|q_<; 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 }`W){]{kO 8.17 1/4波长堆栈 162 (8Bk;bd 8.18 陷波滤波器 163 kSR\RuY* 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 LV\DBDM 8.20 褶皱 165 d]:I(9K 8.21 消偏振分光器1 169 2_n7=& 8.22 消偏振分光器2 171 2q3+0Et8 8.23 消偏振立体分光器 172 q;<h[b? 8.24 消偏振截止滤光片 173 POdUV 8.25 立体偏振分束器1 174 BybW)+~ 8.26 立方偏振分束器2 177 ^aH\7J@Y 8.27 相位延迟器 178 @\|_ 8.28 红外截止器 179 NdL,F;^ 8.29 21层长波带通滤波器 180 PV9pa/`@ 8.30 49层长波带通滤波器 181
5&v~i\Q 8.31 55层短波带通滤波器 182 7NDr1Z#B6V 8.32 47 红外截止器 183 r30 < |