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2022新书强烈推荐 ^\:2}4Uj_ 1zktU.SZ 内容简介 M)cGz$Q| Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 $cVi;2$p 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 vRPS4@9' 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 jLcHY-P0V +@VYs*&& 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 r?l;I3~ 目录 P=H+ # Preface 1 MF[z-7 内容简介 2 1'G8o=~ 目录 i JLb6C52 1 引言 1 Ih1|LR/c 2 光学薄膜基础 2 Gowp
<9 F 2.1 一般规则 2 :[M[( 2.2 正交入射规则 3 c#b:3dXx9 2.3 斜入射规则 6 B(l-}|m_ 2.4 精确计算 7 tLcEl'Eo 2.5 相干性 8 !ax;5 @J 2.6 参考文献 10 v&3O&y/1v 3 Essential Macleod的快速预览 10
&C-;S a4 4 Essential Macleod的特点 32 z#<P}} 4.1 容量和局限性 33 )'q%2%Ak 4.2 程序在哪里? 33 xfSG~csoz 4.3 数据文件 35 HBLWOQab 4.4 设计规则 35 v@G4G*x\ 4.5 材料数据库和资料库 37 J?P]EQU 4.5.1材料损失 38 jiIST^Zq#t 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Xz;b,C&*t 4.5.2 材料库 41 }gsO&g"8 4.5.3导出材料数据 43 ew#T8F[ 4.6 常用单位 43 w 7tC|^#G 4.7 插值和外推法 46 r3I,11B 4.8 材料数据的平滑 50 oTOfK} 4.9 更多光学常数模型 54 dmR3Y.\jd 4.10 文档的一般编辑规则 55 JZ`L% 4.11 撤销和重做 56 ui'F'"tPz 4.12 设计文档 57 OoP@-D"e 4.10.1 公式 58 n_$yV:MuT! 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 .R5/8VuHF 4.10.3 沉积密度 59 h'^FrWaU/ 4.10.4 平行和楔形介质 60 {Iy7.c8S 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ~uPk 4.10.4 性能 61 Z|^MGyn 4.10.5 保存设计和性能 64 2H&{1f\Bf 4.10.6 默认设计 64 gwQvao 4.11 图表 64 Xa`(;CLW? 4.11.1 合并曲线图 67 GYgWf1$8_D 4.11.2 自适应绘制 68 K="I<bK 4.11.3 动态绘图 68 wsg//Ec] 4.11.4 3D绘图 69 PO
ko]@~!i 4.12 导入和导出 73 U($^E}I2( 4.12.1 剪贴板 73 E_[ONm=, 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 dE>v\0 3!8 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Mn"/#tXL- 4.13 背景 77 NyJnOw( 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 GqjO>v fy 4.15 生成Rugate 84 Tkrx7Cs( 4.16 参考文献 91 !cCg/ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ez0 \bym 5.1 Jobs 92 ",Wf uz 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Qp&?L"U)2 5.3 输入材料 94 ida*]+ ~ 5.4 设计数据文件夹 95 ^\YQ_/\~L 5.5 默认设计 95 N^@
\tg= 6 细化和合成 97 ;4d.)-<No_ 6.1 优化介绍 97 N&B>#: 6.2 细化 (Refinement) 98 ZA.fa0n 6.3 合成 (Synthesis) 100 Cnur"?w@o 6.4 目标和评价函数 101 y@9Y,ZR* 6.4.1 目标输入 102 Kcn\g. 6.4.2 目标 103 fjkT5LNxk 6.4.3 特殊的评价函数 104 zXgkcq) 6.5 层锁定和连接 104 ^"`Z1)V 6.6 细化技术 104 sM9-0A 6.6.1 单纯形 105 4? {*( 6.6.1.1 单纯形参数 106 ,iOZ| 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 G4yUC<TqBP 6.6.2.1 Optimac参数 108 pSrsp r 6.6.3 模拟退火算法 109 UQdyv(jXq 6.6.3.1 模拟退火参数 109 B_@7IbB 6.6.4 共轭梯度 111 YnxU(v'\ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 7sN0`7 6.6.5 拟牛顿法 112 c+;S<g0 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 <W|1<=z( 6.6.6 针合成 113 [Ye5Y? 6.6.6.1 针合成参数 114 LO>8 j: 6.6.7 差分进化 114 )GCLK<,swu 6.6.8非局部细化 115 |
W?[,|e 6.6.8.1非局部细化参数 115 ./!KE"! 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Ko-QR( 6.7.1 细化 116 Rc%PZ}es 6.7.2 合成 117 N('3oy#8 6.8 参考文献 117 7X:hIl 7 导纳图及其他工具 118 (\q[gyR 7.1 简介 118 1 ?]J;9p 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 h~.V[o7= 7.2.1 四分之一波长规则 119 W["HDR 7.2.2 导纳图 120 T=yCN#cqQ` 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 0&o
WfTg 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 .6I%64m 7.5 斜入射导纳图 141 U:Fpj~E_w 7.6 对称周期 141 u
dUXc6U 7.7 参考文献 142 a5I%RY 8 典型的镀膜实例 143 lzI/\% 8.1 单层抗反射薄膜 145 ^B6`e^< 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 .n=xbx:= 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 R_~F6O^EO 8.4 W-膜层 148 Z0z) 8.5 V-膜层 149 SOYDp;j 8.6 V-膜层高折射基底 150 'iDu0LX 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 *q[^Q'jnN 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 zlN+edgY#, 8.9 四层抗反射薄膜 153 ?xf~!D 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 `v<f} 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 QJ6f
EV$~ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 B4 <_"0 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 J
b|mXNcL 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 (F_7%!g1d 8.15十五层宽带抗反射膜 159 0YHYx n 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 p\)h",RkA 8.17 1/4波长堆栈 162 q2D`1nT 8.18 陷波滤波器 163 <|wmjW/D 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 \J\vp0[nO} 8.20 褶皱 165 Q9nu"x
% 8.21 消偏振分光器1 169 q
w"e0q% ) 8.22 消偏振分光器2 171 6l=M;B7:i 8.23 消偏振立体分光器 172 OHQ3+WJ 8.24 消偏振截止滤光片 173 )8\Z=uC 8.25 立体偏振分束器1 174 M!{Rq1M 8.26 立方偏振分束器2 177 jeyaT^F(
8.27 相位延迟器 178 Z|f^nH#-C 8.28 红外截止器 179 !/[AQ{**T! 8.29 21层长波带通滤波器 180 R2 'C s 8.30 49层长波带通滤波器 181 oF`-cyj" 8.31 55层短波带通滤波器 182 `~sf}S
: 8.32 47 红外截止器 183 %Ud.SJ3 8.33 宽带通滤波器 184 N n:m+ZDo^ 8.34 诱导透射滤波器 186 C[^a/P`i 8.35 诱导透射滤波器2 188 Q9SPb6O2 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 a'c9XG} 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 s;~J2h[ 8.35 增益平坦滤波器 193 xXl$Mp7 8.38 啁啾反射镜 1 196 &Qz"nCvJ 8.39 啁啾反射镜2 198 F&-5&'6G+ 8.40 啁啾反射镜3 199 G`&'Bt{Z* 8.41 带保护层的铝膜层 200 I]s:Ev[~ 8.42 增加铝反射率膜 201 `7+tPbjs 8.43 参考文献 202 6S` ,j 9 多层膜 204 g=)U_DPRi 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 )GQD*b 9.2 内部透过率 204 e=|F(iW 9.3 内部透射率数据 205 )yfOrsM 9.4 实例 206 `=WzG" 9.5 实例2 210 *T1L)Cp 9.6 圆锥和带宽计算 212 L+`}euu5 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 5LnB]dW 10 光学薄膜的颜色 216 Y>c5:F; 10.1 导言 216 PLlx~A 10.2 色彩 216 !:`Ra 10.3 主波长和纯度 220 a?f5(qW3 10.4 色相和纯度 221 DRS;lJ2 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 7~QwlU3n<F 10.6 色差 226 rl_1),J\qG 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 h=mI{w* 10.8 颜色渲染指数 234 +K @J*W 1 10.9 色差计算 235 Vz+=ZK r5 10.10 参考文献 236 t2`X!` 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 EC:x,i 11.1 短脉冲 238 R;N>#_9HU 11.2 群速度 239 j.e`ip 11.3 群速度色散 241 S<)RVm,!e 11.4 啁啾(chirped) 245 A_8`YN"Xk 11.5 光学薄膜—相变 245 bDcWb2lqs 11.6 群延迟和延迟色散 246 S@l
a.0HDA 11.7 色度色散 246 f^>lObvd 11.8 色散补偿 249 rmAP&Gw I 11.9 空间光线偏移 256 '{1W)X 11.10 参考文献 258 gGceK^# 12 公差与误差 260 >(YPkmH 12.1 蒙特卡罗模型 260 &)/H?S;yN 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 a93d'ZE-X 12.2.1 误差工具 267 P,LXZ 12.2.2 灵敏度工具 271 xw/h~:NT 12.2.2.1 独立灵敏度 271 O=9V X 12.2.2.2 灵敏度分布 275 l)2HHu< 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 jn#N7%{Mk 12.3 参考文献 276 }r\SP3 13 Runsheet 与Simulator 277 7m@^=w 13.1 原理介绍 277 }(hYG"5 13.2 截止滤光片设计 277 "m\UqQGX 14 光学常数提取 289 4jue_jsle 14.1 介绍 289 ^me}k{x 14.2 电介质薄膜 289 oVxV,oH( 14.3 n 和k 的提取工具 295 U_=wL 14.4 基底的参数提取 302 FcbA)7dD 14.5 金属的参数提取 306 ~,3v<A[5Vi 14.6 不正确的模型 306 cWy*K4O 14.7 参考文献 311 %i
JU)N! 15 反演工程 313 IU;pkgBj0Y 15.1 随机性和系统性 313 eUUD|U*b 15.2 常见的系统性问题 314 .w*{=x0k 15.3 单层膜 314 Ozh^Q$>u 15.4 多层膜 314 <8xP-(wk; 15.5 含义 319 eG2qOq$[ 15.6 反演工程实例 319 K:Xrfn{s 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 v"?PhO/{= 15.6.2 反演工程提取折射率 327 D;#Yn M3 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 O( sFs1 16.1 光学性质的热致偏移 329 [laL6 16.2 应力工具 335 IbNTdg]/F` 16.3 均匀性误差 339 OYRR'X.E 16.3.1 圆锥工具 339 C`K9WJOD 16.3.2 波前问题 341 S0o,)`ZB 16.4 参考文献 343 `peJ s~V 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 y^+[eT& |