-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-01-14
- 在线时间1914小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
2022新书强烈推荐 Cu`ty] -' =l+~}/7'Z 内容简介 @G?R( Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 YF68Ax] 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 b/6!>qMMk% 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 vTq
[Xe" UJ7{FN=@t 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 v&r\Z @% 目录 2f0qfF Preface 1 r O-=):2 内容简介 2 [iUy_ C=qp 目录 i O%*:fd,o- 1 引言 1 JN> h: 2 光学薄膜基础 2 ~U+W4%f8 2.1 一般规则 2 q:<vl^<j 2.2 正交入射规则 3 ?5<x$YI 2.3 斜入射规则 6 Yx':~ 2.4 精确计算 7 0;Z] vl/| 2.5 相干性 8 rtC:3fDy 2.6 参考文献 10 e_3($pj 3 Essential Macleod的快速预览 10 -h%1rw 4 Essential Macleod的特点 32 >^J 4.1 容量和局限性 33 $*c!9Etl4 4.2 程序在哪里? 33 5 nS}h76mZ 4.3 数据文件 35 !eA6Ejf 4.4 设计规则 35 X1FKcWv 4.5 材料数据库和资料库 37 bA02)?L 4.5.1材料损失 38 ;&`6b:ug 4.5.1材料数据库和导入材料 39 3S{3AmKj? 4.5.2 材料库 41 NN]8T 4.5.3导出材料数据 43 ZYs?65. 4.6 常用单位 43 !P@4d G 4.7 插值和外推法 46 Z7J4rTA 4.8 材料数据的平滑 50 EFzPt?l 4.9 更多光学常数模型 54 tKYg 4.10 文档的一般编辑规则 55 a3c43!J?M 4.11 撤销和重做 56 -7(,*1Tk 4.12 设计文档 57 yII+#?D 4.10.1 公式 58 D8\9nHUD` 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 >Y=qSg>Ik 4.10.3 沉积密度 59 9T%b#~?3P 4.10.4 平行和楔形介质 60 C"R}_C|r)* 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 GxS!Lk 4.10.4 性能 61 `i)Pf WdBN 4.10.5 保存设计和性能 64 y1#*c$ O 4.10.6 默认设计 64 dfWtLY 4.11 图表 64 m;{(U Z 4.11.1 合并曲线图 67 Svt%*j 4.11.2 自适应绘制 68 W<T
Ui51Y 4.11.3 动态绘图 68
[
@9a 4.11.4 3D绘图 69 u]sxX") 4.12 导入和导出 73 vf?Xt 4.12.1 剪贴板 73
/>2zKF? 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Xh@;4n 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 x\aCZ 4.13 背景 77 dZuPR 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 `Ln1g@ 4.15 生成Rugate 84 (je`sV 4.16 参考文献 91 ZDx1v_xr 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 w}0rDWuR[ 5.1 Jobs 92 3hfv^H 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Wn&9R
j 5.3 输入材料 94 hCob^o 5.4 设计数据文件夹 95 _*-b0 }T 5.5 默认设计 95 S~U5xM^s 6 细化和合成 97 p<c1$O* 6.1 优化介绍 97 ;jh.\a_\ 6.2 细化 (Refinement) 98 ~toR)=Yv 6.3 合成 (Synthesis) 100 GjyTM 6.4 目标和评价函数 101 ^f9>tI{ 6.4.1 目标输入 102 TecWv@. 6.4.2 目标 103 ce7$#
# f 6.4.3 特殊的评价函数 104 >OKc\m2%Q 6.5 层锁定和连接 104 4@=[rZb9 6.6 细化技术 104 y(X^wC 6.6.1 单纯形 105 J3hhh(
6.6.1.1 单纯形参数 106 ?N]G;%3/ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 &'u%|A@ 6.6.2.1 Optimac参数 108 Z_s]2y1 6.6.3 模拟退火算法 109 3{M0iNc1 6.6.3.1 模拟退火参数 109 .t.4y.
97 6.6.4 共轭梯度 111 F&HvSt}l5 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 WF-^pfRq~ 6.6.5 拟牛顿法 112 wcW7k(+0 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 :PNhX2F 6.6.6 针合成 113 @ 1FWBH~ 6.6.6.1 针合成参数 114 2XyC;RWJ% 6.6.7 差分进化 114 |8fdhqy_ 6.6.8非局部细化 115 6kO+E5;X 6.6.8.1非局部细化参数 115 !'Ww%ZL\
6.7 我应该使用哪种技术? 116 1rV9dM#F 6.7.1 细化 116 rh T!8dTk 6.7.2 合成 117 Y4N)yMSl" 6.8 参考文献 117 1;HL=F 7 导纳图及其他工具 118 p+V::O&&r 7.1 简介 118 {BZ0x2 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Q}uh`?t 7.2.1 四分之一波长规则 119 XsX];I{E, 7.2.2 导纳图 120 l"%WXi"X 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 uFL!*#A 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Si68_]:^ 7.5 斜入射导纳图 141 c3*9{Il^ 7.6 对称周期 141 -Fc 9mv(H 7.7 参考文献 142 M7ug<
8i 8 典型的镀膜实例 143 6>b'g
~I 8.1 单层抗反射薄膜 145 :Yn{:%p 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 caZEZk#r; 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ~zDFL15w 8.4 W-膜层 148 u?KG% 8.5 V-膜层 149 sI@kS^ 8.6 V-膜层高折射基底 150 BJjx y0+ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Tj=@5lj0 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 1pT/`x 8.9 四层抗反射薄膜 153 zwK$ q=-: 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 n"<'F4r 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 #-/_J? 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 i}>}%l| 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 0gr#<( 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 p<&d |