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2022新书强烈推荐 cMUmJH Jl)Q# 内容简介 c"'JMq Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ;>p{|^X0D 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 r-}C !aF] 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 4!+IsT B?XqH_=0L 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 !"^//2N+, 目录 m!<uY?,hf Preface 1 y#{> tC 内容简介 2 Ut"F b 目录 i ~EhM"go 1 引言 1 2K(zYv54 2 光学薄膜基础 2 ^^*dHWHn< 2.1 一般规则 2 5
.bU2C 2.2 正交入射规则 3 pu+jw<7 2.3 斜入射规则 6 s4\_%je<v 2.4 精确计算 7
cCy*?P@ 2.5 相干性 8 rcMSso2 2.6 参考文献 10 o7@81QA!e 3 Essential Macleod的快速预览 10 SxRa?5 4 Essential Macleod的特点 32 G
Y ]bw 4.1 容量和局限性 33 (^Hpe5h& 4.2 程序在哪里? 33 tsTCZ);( 4.3 数据文件 35 .\ces2, 4.4 设计规则 35 v+`gQXJ"G 4.5 材料数据库和资料库 37 +,ZQ(
ZW 4.5.1材料损失 38 QK/~lN 4.5.1材料数据库和导入材料 39 q6>%1~? 4.5.2 材料库 41 ^5*9BwH` 4.5.3导出材料数据 43 1A\N$9Dls 4.6 常用单位 43 g~$cnU 4.7 插值和外推法 46 nJo6;_MI! 4.8 材料数据的平滑 50 w97%5[-T 4.9 更多光学常数模型 54 ?,x3*'-( 4.10 文档的一般编辑规则 55 4Q(GX.5 4.11 撤销和重做 56 lK3Z}e*eXQ 4.12 设计文档 57 {`1gDKH 4.10.1 公式 58 CrI:TB>/" 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 n[`FoY 4.10.3 沉积密度 59 sM'%apM# 4.10.4 平行和楔形介质 60 'e06QMp@ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 a{7'qmN1 4.10.4 性能 61 EAXbbcV 4.10.5 保存设计和性能 64 La'XJ|>V 4.10.6 默认设计 64 ?T <2Cl'C 4.11 图表 64 BO)Q$*G~JD 4.11.1 合并曲线图 67 T4x%dg 4.11.2 自适应绘制 68 "_T8Km008 4.11.3 动态绘图 68 |.Y}2>{ 4.11.4 3D绘图 69 &C=[D_h 4.12 导入和导出 73 :NPnwX8w 4.12.1 剪贴板 73 u'+;/8 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 P<A_7Ho 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 /V@9! 4.13 背景 77 yJAz#~PO/ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 `z{sDe; 4.15 生成Rugate 84 "WE*ED 4.16 参考文献 91 9s'[p'[Z 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Wc
qUF"A 5.1 Jobs 92 ^9*kZV<K 5.2 创建一个新Job(工作) 93 a8laPN 5.3 输入材料 94 ]3iQpL 5.4 设计数据文件夹 95 Zw<\^1 5.5 默认设计 95 #?EmC]N7 6 细化和合成 97 &;]KntxB 6.1 优化介绍 97 NhYce> 6.2 细化 (Refinement) 98 qTUyax 6.3 合成 (Synthesis) 100 B6#^a 6.4 目标和评价函数 101 (Ld,<!eN0 6.4.1 目标输入 102 #.^A5`k 6.4.2 目标 103 soXIPf 6.4.3 特殊的评价函数 104 W2F *+M 6.5 层锁定和连接 104 sbi+o,%1 6.6 细化技术 104 ~SN * 6.6.1 单纯形 105 (6#,
$Ze 6.6.1.1 单纯形参数 106 1Vy8TV3D 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 KJ;;825? 6.6.2.1 Optimac参数 108 78fFAN` 6.6.3 模拟退火算法 109 qzt.k^'-^
6.6.3.1 模拟退火参数 109 $vK(Qm 6.6.4 共轭梯度 111 _8I\! 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 3q*p#l~ 6.6.5 拟牛顿法 112 e;G}T%W 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 mW&hUPRx 6.6.6 针合成 113 {oK4
u 6.6.6.1 针合成参数 114 ;bhD:$NB X 6.6.7 差分进化 114 U8gf_R' 6.6.8非局部细化 115 b>Em~NMu_ 6.6.8.1非局部细化参数 115 Z_.xglq{ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 dFVx*{6 6.7.1 细化 116 f5ttQ&@FF 6.7.2 合成 117 GI _.[ 6.8 参考文献 117 $WS?/H0C 7 导纳图及其他工具 118 y1c2(K>tu 7.1 简介 118 R Q2DTQ-$ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ]oIP;J:& 7.2.1 四分之一波长规则 119 l}MVk%[ 7.2.2 导纳图 120 I->BDNk 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 *'ffMnSZ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 VY|'7in"M 7.5 斜入射导纳图 141 ZD;1{ 7.6 对称周期 141 ly~tB LH} 7.7 参考文献 142 x=%wPVJ 8 典型的镀膜实例 143 mo()l8 8.1 单层抗反射薄膜 145 bD ADFitSo 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 T1[B*RwC 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 k(23Zt] 8.4 W-膜层 148 = Y`e?\#` 8.5 V-膜层 149 [wv;CUmgc 8.6 V-膜层高折射基底 150 &cHA xker 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 O@-|_N*;K 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 k|D =Q 8.9 四层抗反射薄膜 153 /k O
<o& 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 p%ZOLoc)Y 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 !l5& |