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2022新书强烈推荐 Yq)YS] u$Pf.# 内容简介 w>9H"Q[ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 YP
.%CD(K 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 W=;(t 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 "I}'C^gP kw}ISXz v 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日
yv8dfl 目录 Qn'r+X5t Preface 1 a\[fC=]r: 内容简介 2 n{qw ]/ 目录 i a?U%l 9F 1 引言 1 NBbY## w0 2 光学薄膜基础 2 $Kw"5cm 2.1 一般规则 2 XCqfAcNQ 2.2 正交入射规则 3 +n8I(l= 2.3 斜入射规则 6 !5'
8a5 2.4 精确计算 7 l;][Q]Z@V 2.5 相干性 8 -;/@;W 2.6 参考文献 10 Bgo"JNM 3 Essential Macleod的快速预览 10 q*<J$PI 4 Essential Macleod的特点 32 x`=5l` 4.1 容量和局限性 33 v%l|S{>( 4.2 程序在哪里? 33 *"wD&E? 4.3 数据文件 35 (8m\#[T+R 4.4 设计规则 35 jQK2<-HZ3 4.5 材料数据库和资料库 37 aP6%OI 4.5.1材料损失 38 *C:q _/ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 O7<V@GL+ 4.5.2 材料库 41 1 [~| 4.5.3导出材料数据 43 31o7R &v 4.6 常用单位 43 h.s<0. 4.7 插值和外推法 46 "|l
oSf@ 4.8 材料数据的平滑 50 %f3Nml 4.9 更多光学常数模型 54 ]a%\Q2[c 4.10 文档的一般编辑规则 55 g)r,q&* 4.11 撤销和重做 56 9T0wdK] 4.12 设计文档 57 0or6_y6 4.10.1 公式 58 Velbq 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ;uWIl 4.10.3 沉积密度 59 -WHwz m 4.10.4 平行和楔形介质 60 <4A(Z$ZX) 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ywsz"/=@ 4.10.4 性能 61 m%$E[cUW! 4.10.5 保存设计和性能 64 WG[0$j 4.10.6 默认设计 64 cdU
>iB, 4.11 图表 64 B=RKi\K6a 4.11.1 合并曲线图 67 ?[>BssW 4.11.2 自适应绘制 68 )*L?PT 4.11.3 动态绘图 68 ~pBxFA 4.11.4 3D绘图 69 ?$8 ,j+&I 4.12 导入和导出 73 {*]=qSz 4.12.1 剪贴板 73 #.G>SeTn2} 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 B8#f^}8 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 q&Ua(I
4.13 背景 77 BKjPmrZ| 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 &B5Rzz-' 4.15 生成Rugate 84 9787uj]Y}H 4.16 参考文献 91 Hd@T8 D*A 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 +P6 5.1 Jobs 92 /7HIL?r 5.2 创建一个新Job(工作) 93 );.<Yf{c 5.3 输入材料 94
S~5 =1b 5.4 设计数据文件夹 95 N@`9 ~JS 5.5 默认设计 95 LF,c-Cv!jL 6 细化和合成 97 ~(doy@0M 6.1 优化介绍 97 nh.v?| 6.2 细化 (Refinement) 98 Z YO/'YW 6.3 合成 (Synthesis) 100 V9 t:JY 6.4 目标和评价函数 101 h^,YYoA$ 6.4.1 目标输入 102 !Q/O[6 6.4.2 目标 103 +z/73s0~ 6.4.3 特殊的评价函数 104 K]azUK7 6.5 层锁定和连接 104 Erymx$@P 6.6 细化技术 104 WAXrA$:3J 6.6.1 单纯形 105 /SM#hwFxJ& 6.6.1.1 单纯形参数 106 WRyv
>Y 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 $,@+Ua
6.6.2.1 Optimac参数 108 L$07u{Q 6.6.3 模拟退火算法 109 XXdMp poR 6.6.3.1 模拟退火参数 109 k/rkJ|i+p 6.6.4 共轭梯度 111 I)4|?tb? 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 mp$II?hZ* 6.6.5 拟牛顿法 112 \Hx#p`B% 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 u6&Ixi/s' 6.6.6 针合成 113 ;."{0gq 6.6.6.1 针合成参数 114 KE1@z] 6.6.7 差分进化 114 9 u89P 6.6.8非局部细化 115 +?eAaC7s 6.6.8.1非局部细化参数 115 j
W]c9u 6.7 我应该使用哪种技术? 116 :z5Ibas: 6.7.1 细化 116 46JP1 6.7.2 合成 117 W$ {sD|d- 6.8 参考文献 117 e/I{N0SR 7 导纳图及其他工具 118 pv.),Iv-68 7.1 简介 118 ^rb7`s#G 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 24k}~"We 7.2.1 四分之一波长规则 119 Gi_X+os 7.2.2 导纳图 120 ;Cpm3at 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 g}`CdVQ2M< 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 9CSz<[ 7.5 斜入射导纳图 141 lt2&uYgp 7.6 对称周期 141 ?O]gFn 7.7 参考文献 142 ag4^y& 8 典型的镀膜实例 143 KUV{]?' 8.1 单层抗反射薄膜 145 "[Lp-4A\ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 fA,!d J 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 4SO{cst 8.4 W-膜层 148 < |