-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-12-02
- 在线时间1892小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
2022新书强烈推荐 {>PN}fk2QP l?2(c 内容简介 (C>FM8$J Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 #RT} -H 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 6;6a.iZ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
AV{3f` ARvT 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 +aR.t@D+"Y 目录 o!!";q%DX Preface 1 3C'`K, 内容简介 2 (7/fsfsF 目录 i x(pq!+~K 1 引言 1 XJ,P8nx 2 光学薄膜基础 2 BB@I|)9O( 2.1 一般规则 2 (WZKqt)S"o 2.2 正交入射规则 3 v'gP,UO-%D 2.3 斜入射规则 6 Ww-%s9N< 2.4 精确计算 7 :ZG^`H/X1d 2.5 相干性 8 k]?M^jrm 2.6 参考文献 10 A`_(L|~ 3 Essential Macleod的快速预览 10 ^PA[fL" 4 Essential Macleod的特点 32 ,S[,F0"% 4.1 容量和局限性 33 =.NZ{G 4.2 程序在哪里? 33 {,EOSta 4.3 数据文件 35 $.{CA-~%[ 4.4 设计规则 35 |:yQOq| 4.5 材料数据库和资料库 37 ?|!167/O 4.5.1材料损失 38 yZkHBG4 4.5.1材料数据库和导入材料 39 -wv5c 4.5.2 材料库 41 #vh1QV!Ho 4.5.3导出材料数据 43 ;]YQWK 4.6 常用单位 43 5dOA^P@`,M 4.7 插值和外推法 46 6QS[mWU 4.8 材料数据的平滑 50 jusP
aAdW 4.9 更多光学常数模型 54 vl59|W6 4.10 文档的一般编辑规则 55 }%LwaRT 4.11 撤销和重做 56 SxV(.i' 4.12 设计文档 57 NCbl|v= 4.10.1 公式 58 FD>j\ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 w20E]4" 4.10.3 沉积密度 59 D~ _|`D5WK 4.10.4 平行和楔形介质 60 .Rl58]x~ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 [)UF@Sq4+Q 4.10.4 性能 61 GB Oz,_pw 4.10.5 保存设计和性能 64 HRS|VC$tz 4.10.6 默认设计 64 Jg#L8>p1 4.11 图表 64 d.y2`wT 4.11.1 合并曲线图 67 k#"Pv" 4.11.2 自适应绘制 68 Q|eRek 4.11.3 动态绘图 68 q)JG_Y.p 4.11.4 3D绘图 69 2}`Q9? 4.12 导入和导出 73 N_S>%Z+ 4.12.1 剪贴板 73 FkJa+ZA 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 [XFZ2'OO 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 86d* 4.13 背景 77 BOqq=WY 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 aIaydu+ \ 4.15 生成Rugate 84 0_JbE 4.16 参考文献 91 g*$
0G 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?m-kpW8 5.1 Jobs 92 L8- 5.2 创建一个新Job(工作) 93 [{3WHS. 5.3 输入材料 94 ]P/eg$u'I 5.4 设计数据文件夹 95 G#V5E)Dx 5.5 默认设计 95 cyUNJw 6 细化和合成 97 {m5tgVi& 6.1 优化介绍 97 Dz,Fu:) 6.2 细化 (Refinement) 98 E:BEQ:(~L 6.3 合成 (Synthesis) 100 !NuYx9L?L 6.4 目标和评价函数 101 w7\:S>;(O" 6.4.1 目标输入 102 v8g3]MVj3 6.4.2 目标 103 qmUq9bV 6.4.3 特殊的评价函数 104 rN#ydw:9 6.5 层锁定和连接 104 K]dqK' 6.6 细化技术 104 :@g@jcbYq` 6.6.1 单纯形 105 iqf+rBL 6.6.1.1 单纯形参数 106 8OC5L1 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Re?sopg0r 6.6.2.1 Optimac参数 108 ,-u | l 6.6.3 模拟退火算法 109 6suB!XF; 6.6.3.1 模拟退火参数 109 N3^pFy` 6.6.4 共轭梯度 111 b7fP)nb695 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 E&0A W{ 6.6.5 拟牛顿法 112 &*g5kh{ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 cqeId&Cg 6.6.6 针合成 113 2^Gl;3 6.6.6.1 针合成参数 114 n`f},.NM| 6.6.7 差分进化 114 [;dWFG"f 6.6.8非局部细化 115 X?$Eb 6.6.8.1非局部细化参数 115 }|f\'S 6.7 我应该使用哪种技术? 116 xD#PM |I 6.7.1 细化 116 ]!H*oP8a* 6.7.2 合成 117 Jl3l\I' 6.8 参考文献 117 `xe[\Z2 7 导纳图及其他工具 118 l ,)l"6OV 7.1 简介 118 jM
J[6qj 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 a AYO(;3 7.2.1 四分之一波长规则 119 HCQv"i}- 7.2.2 导纳图 120 G~)jk+Qq 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ><OdHRh@# 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ^8)&~q* 7.5 斜入射导纳图 141 o)n8,k&nm 7.6 对称周期 141 W"Dj+/uS 7.7 参考文献 142 ~bT0gIc 8 典型的镀膜实例 143 uR)itmc? 8.1 单层抗反射薄膜 145 3hR7 ./ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 qM@][]j: 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @FkNT~OZ 8.4 W-膜层 148 ,)V*xpp 8.5 V-膜层 149 f4s[R0l 8.6 V-膜层高折射基底 150 x[nv+n , 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 +YT/od1t7 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 jLvI!q 8.9 四层抗反射薄膜 153 KtY~Y 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 En6fmEn&;o 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 O|,+@qtH 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 wd*T"V3 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 'DsfKR^s 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 s5|LD'o! 8.15十五层宽带抗反射膜 159 [gzU/: 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 f]$g9H 8.17 1/4波长堆栈 162 ?-<t-3%hyV 8.18 陷波滤波器 163 ^'QcP5Fv 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 $qQ6u! 8.20 褶皱 165 (#c5Q& |