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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 vD(;VeW[ Mk?9`?g.
4e:hKv,+4 }"T:z{n 任务说明 5mV'k"Om#" 6QV/8IX O~D}&M@/R ]
=D+a& 简要介绍衍射效率与偏振理论 vL><Y.kOEs 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 QEVjXJOt0 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: :sn}D~ -{<%Wt9 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 R6!3Y/Q@ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ~5|a9HV: >!$4nxq2> 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 >ko;CQR eY-$hnUe 光栅结构参数 8'YL!moG| 研究了一种矩形光栅结构。 v|hi;l@7E 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 >8,BC 根据上述参数选择以下光栅参数: ^8 z*f&g 光栅周期:250 nm xW09k6 填充因子:0.5 6(z.(eT 光栅高度:200 nm u/MIB`@, 材料n_1:熔融石英(来自目录) Vf:t!'WD?2 材料n_2:二氧化钛(来自目录) OS!47Z /q > ):b AfI WgjaMmht 5E%W;$3Pb 偏振态分析 a5)+5 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 +EFurdX\ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 vb%\q sf 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 `wq\K8v `R^)<v* =?}'\
>G " WcdU fv(> 模拟光栅的偏振态 rF5<x3 |k^X!C 0
9KP+ )JjfPb64 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: Lt*H|9 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 !ine|NM 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 KL xg 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ^c2 8Q.<w( 3:C *'@ Passilly等人更深入的光栅案例。 )I*V('R6| Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 %~eZrG. 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 ]M2> %Dvw y_'8m9Qy)
{!,+C0 R &-bA3w$ 光栅结构参数 2^juLXc|R 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 3(CUC 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 Lrk^<:8; 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 :gR`rc! 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 0!^{V:DtQ
{u!,TDt* uW[<?sFG 光栅#1——参数 co;2s-X 假设侧壁倾斜为线性。 ;eWVc;H 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 5$y<nMP 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 $k!t&G 光栅周期:250 nm u!F3Rh8D 光栅高度:660 nm Pukq{/27 填充因子:0.75(底部) *d%m.:)N 侧壁角度:±6° Fa;CWyt n_1:1.46 & MAIm56~ n_2:2.08 ?1[go+56X ;A|6&~E0G
Z{e5 OJ Y H?>2u 光栅#1——结果 {yJ{DU?%Y 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 I5-/KVWb 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 3GaM>w}>W SQEXC*08
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lQ<x al^ yCoB 光栅#2——参数 -
@ 假设光栅为矩形。 r^]0LJ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ~#gVs*K 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ]ao]?=q C 光栅周期:250 nm y<5s)OehG 光栅高度:490 nm GSMP)8W 填充因子:0.5 }U8H4B~UtY n_1:1.46 ."MBKyg6 n_2:2.08 QK;A>] wD*_S}] n0EKNMO yvVs9"|0 光栅#2——结果 Ex~OT 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 "F0,S~tZZ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 b|4h2iuM s'i1!GNF
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