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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 Sggl*V/q /1uGsE+[
"<f?.l\+ LBmXy8'T` 任务说明 I!Mkss xc ^/#8 " U#<{RqY Vv+ oq5hf 简要介绍衍射效率与偏振理论 K3h"oVn 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 M1T . 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: L+eK)Q 87m`K Str7 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 IkxoW:L 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: FlY"OU* 1QnaZhu' 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 d(Hqj#`-31 "-j96
KD 光栅结构参数 sbFIKq] 研究了一种矩形光栅结构。 T0.sL9 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 ooP{Q r 根据上述参数选择以下光栅参数: D&pX0 光栅周期:250 nm @\M^Zuo 填充因子:0.5 ;jO+<~YP! 光栅高度:200 nm /!y;h- 材料n_1:熔融石英(来自目录) MBnxF^c&P 材料n_2:二氧化钛(来自目录) `:jF%3ks+0 N/<c;"o 7#X`D PYzTKjw
偏振态分析 UUa@7|x 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 2izBB,# " 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ln":j?` 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 hlz/TIP^N3 d`%7Pk +_QcLuV, 5 PP^w~n 模拟光栅的偏振态 7]i6 Gk
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`B,R+==G: Ekh)l0
l 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: S,f#g?V 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 /gex0w 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 H+@?K6{h 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 DF-.|-^9I Xg\unUHa Passilly等人更深入的光栅案例。 %?F$3YN, Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 6&L;Sw#Dg 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 $vn)(zn+ y{~tMpo<
6E(..fo:" JNP6qM 光栅结构参数 oZdY0n h4 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 lhf5[Rp 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 gA3f@7}d 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 dP>FXgY 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 D=Yr/qc?
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KP$AT}D 光栅#1——参数 +At0V( 假设侧壁倾斜为线性。 n-,mC/4 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 P\QbMj1U 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 OI3j!L2f 光栅周期:250 nm a=v H:D 光栅高度:660 nm i CB:p 填充因子:0.75(底部) vj]h[=: 侧壁角度:±6° }([}A`@ n_1:1.46 &5[+p{2 n_2:2.08 g`tV^b") 8@RJ>
73SH[f[g @xBO[v 光栅#1——结果 :h!'\9 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
.C5JQO 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 TefPxvd u1d%wOY
02,.UqCz E}<i?; 光栅#2——参数 C@<gCM j," 假设光栅为矩形。 A5]yC\*zt 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 oq|`;k 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 8!@}\6qM 光栅周期:250 nm d>Nh<PqH6 光栅高度:490 nm |ZXz&Xor 填充因子:0.5 IYH4@v/# n_1:1.46 sYvlf0 n_2:2.08 Q}a(vlZ xO,;4uE V'UFc>{o kLpq{GUv: 光栅#2——结果 j |o&T41 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 @O-\s q 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 " SP6o b)E<b{'W <aI}+ :2')`xT
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