抛光常见疵病产生原因及克服方法 &?9p\oY[
印迹 $7jJV (B
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 g (ZeGNV8
2)玻璃化学稳定性不好 K*'(; 1AiW
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 NAZxM9
克 服 方 法 j1v fp"J1
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 [`=|^2n?
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 ORs<<H.d
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 [ k^6#TQcn
光圈变形 X4BDl
1)粘结胶粘结力不适 p !AQ
2)光圈未稳定既下盘 !a[
v o US
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) N12K*P[!
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 _{_LTy%[
克 服 方 法 UB|Nx(V s
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 Z UQ1\Iw
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间
4sSQ
nK
3)刚盘定期进行检测和修正 UN`-;!
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 (5_l7hWY
麻点： (toGU
产 生 原 因 KOV^wSwS
1) 精细磨、抛光时间不够 P{)&#HXUVb
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 /cJ$`
pN
3)有粗划痕抛断后的残迹 j08 G-_Gjn
4)方形或长方形细磨后塌角 bo$xonV @y
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 Z]1~9:7ap
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 2"'0OQN0\
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 |5F]y"Nb
克 服 方 法
b?CmKiM%
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 * =MC+4E
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 AXH4jQw
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 @H@&B`K d
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 #8R\J[9
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 \hc} xy
0
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 . m7iXd{
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
