抛光常见疵病产生原因及克服方法 '21gUYm
印迹 _ZFEo< `'
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 Hh*?[-&r~
2)玻璃化学稳定性不好 (_<,Oj#*S
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 FM I1[|:;
克 服 方 法 '
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1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 s.Bb@Jq
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 vNrn]v=|}7
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 i}P{{kMJ
光圈变形 %Nv w`H
1)粘结胶粘结力不适 `]XI Q\ *
2)光圈未稳定既下盘 X<Z(,B
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) fByf~iv,
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 X?wZ7*'1
克 服 方 法 |:JT+a1
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 uC#@qpzy
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 +kQ=2dva
3)刚盘定期进行检测和修正 Yz Q1c~+
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 )7NI5x^$
麻点： 7>BfHb
产 生 原 因 @sA !o[gH
1) 精细磨、抛光时间不够 FE&: ?
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 9J?s :"j
3)有粗划痕抛断后的残迹 0.0-rd>
4)方形或长方形细磨后塌角 >h#w~@e::
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 {vC tp
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 t(-,mw
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 X(MS!R V
克 服 方 法 $ P?^GB>u
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 xlu4
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 =g M@[2
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 16 ~E
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 ^N|8
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5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 _W _< bI34
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 kDWEgnXK,v
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
