抛光常见疵病产生原因及克服方法 q]FBl}nwl%
印迹 / t5p-
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 h 5GU9M
2)玻璃化学稳定性不好 m Ni2b*k
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 CU$#0f >
克 服 方 法 8(lR!!=q
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 1e}8LH7
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 |^( M{
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 e |V]
光圈变形 C6jR=@42Q
1)粘结胶粘结力不适 7-* =|gl+
2)光圈未稳定既下盘 ?S tsH
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) 6B6vP%H#
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 ho.(v;
克 服 方 法 vzXag*0
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 Ck'aHe22'
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 `1+F,&e
3)刚盘定期进行检测和修正 S3Y2O
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4）严格按工艺和上盘操作规程加工 6F|j(LB
麻点： tFM$#JN
产 生 原 因 h<x4YB5Mj
1) 精细磨、抛光时间不够 h|)vv4-d|
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 : ]WqfR)#
3)有粗划痕抛断后的残迹 &<]<a_pw
4)方形或长方形细磨后塌角 BKIjNV3
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 f.6~x$:)`E
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 Kq)MTlP0g
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 Hd &{d+B
克 服 方 法 Fvd eQsc!
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 "G?Yrh
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 M 2q"dz
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 v }\,o%t^
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 L{&U V0q!
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 1^G{tlA-
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 f_=~H<j!
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
