抛光常见疵病产生原因及克服方法 KV!<Oq
印迹 9~AWn g
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 3EFD%9 n
2)玻璃化学稳定性不好 )9"oL!2h
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 8``;0}'PC
克 服 方 法 S[M4ukYK
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 u .|~
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆
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3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 Lf}8qB#Y
光圈变形 Y8s;w!/
1)粘结胶粘结力不适 4 (?MUc
2)光圈未稳定既下盘 j28 _Hh T
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) OTvROJP
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 cH`^D?#se
克 服 方 法 Aw ^yH+ae
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 Os),;W0w 4
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 ;|ub!z9GG
3)刚盘定期进行检测和修正 Go\VfLL w
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 D=?{8 'R'
麻点： Eyh| a. )-
产 生 原 因 @9 8; VWY\
1) 精细磨、抛光时间不够 =6 %|?5G
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 54p tP
3)有粗划痕抛断后的残迹 @Z(rgF{{
4)方形或长方形细磨后塌角 [5ethM
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 w*LbH]l<-
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 S0w> hr
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 'UwI*EW2S
克 服 方 法 wvc>0?t '
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 i S p
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 Fxd{ Zk`
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 2=*=^)FNI
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 e$l 6gY
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 gtU1'p"
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 R"xp%:li
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
