抛光常见疵病产生原因及克服方法 ' )KuLVE}S
印迹 ?!$: I8T
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 Z3z"c
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2)玻璃化学稳定性不好 EVDcj,b" ^
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 vW`[CEm^X
克 服 方 法 g,}_&+q:.M
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 }<=_&n
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 D Ax 1
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 D[p`1$E-1v
光圈变形 J*+[?FXRL
1)粘结胶粘结力不适 >AUzsQ
2)光圈未稳定既下盘 `E8D5'tt
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) D` 2w >{Y
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 +W}6o3x~
克 服 方 法 tk!5"`9N
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 ~r?VXO p"
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 NbUb LzE
3)刚盘定期进行检测和修正 a<l DT _2b
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 -$cO0RSY
麻点： &/-}`hIAT
产 生 原 因 zx;~sUR;
1) 精细磨、抛光时间不够 ^D A<=C-[!
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 9
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3)有粗划痕抛断后的残迹 sff4N>XAl<
4)方形或长方形细磨后塌角 dnCurWjdk
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 ?O Vje9
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 Pd;G c@'~
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 Oz Axnd\.N
克 服 方 法 5odXT *n
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 !:M+7kmr7t
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 V$3`y=8
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 ;={3H_{3
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 (0^ZZe`# j
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 l9f%?<2D
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 3U% kf<m=
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
