抛光常见疵病产生原因及克服方法 j\XX:uU_
印迹 hN>('S-cq
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 c7FfI"7HR
2)玻璃化学稳定性不好 *Gk<"pEeS
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 sf.E|]isW
克 服 方 法 H ]% mP|
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 q# mFN/.(+
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 }vXA`)Ns
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 jw`&Np2Q
光圈变形 v`z=OHc
1)粘结胶粘结力不适 [oQ `HX1g
2)光圈未稳定既下盘 #U ",,*2
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) j6&zRFX
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 )z ?&" I
克 服 方 法 *@-q@5r}!
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 TS\A`{^T
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 EWu iaw.
3)刚盘定期进行检测和修正 .LeF|EQU\@
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 pO-s@"j]
麻点： ?L<UOv7;t
产 生 原 因 H3p4,Y}'#
1) 精细磨、抛光时间不够 N=O+X~
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 H# 1*'e>
3)有粗划痕抛断后的残迹 ? 1-n\ka
4)方形或长方形细磨后塌角 )+jK0 E1
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 g6[/F-3Qlf
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ZbZAx:L
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 S`GXiwk
克 服 方 法 -7Aw
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1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 @w#gRQCl
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 JR?
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3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 Z3X&<Y5
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 brYYuN|Vc
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 x8SM,2ud
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 wB1|r{
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
