抛光常见疵病产生原因及克服方法 lHc|: vG?
印迹 m `! Vryf
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 krSOS W J
2)玻璃化学稳定性不好 vO
3-B
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 hmES@^n!_
克 服 方 法 b/ g~;| <
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 PBY;S G ~
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 k:0nj!^4w>
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干
W*Gp0pX
光圈变形 `]$H\gNI[8
1)粘结胶粘结力不适 Pm=i(TBS/
2)光圈未稳定既下盘 OlcWptM$
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) +*=?0 \
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 nK>D& S_!
克 服 方 法 QG]*v=Z
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 d$<1M a}
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 pcO{%]?p
3)刚盘定期进行检测和修正 ; yDXo\gm
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 W:y'a3~
麻点： w@ $_2t
产 生 原 因 ?y4vHr"c
1) 精细磨、抛光时间不够 ,&aD
U
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 NB .&J7v
3)有粗划痕抛断后的残迹 'qlWDt/
4)方形或长方形细磨后塌角 z\6/?5D#v
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 K/D,s H!
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 Y^ ti;:
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 B[{Ie
G'
克 服 方 法 W<OO:B.ty
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 x5YHmvy/l
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 n,o;:c
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 /GU%{nT
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 3@^b's'S|}
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 } <
m@82\
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 1Jn:huV2
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
