抛光常见疵病产生原因及克服方法 5P x_vtqP
印迹 0l*/_;wo
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 VvKH]>*
2)玻璃化学稳定性不好 [%:NR
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 :wm^04<i
克 服 方 法 n a)ceN 2h
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 k/O&,T77}J
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 5H2|:GzUc
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 1cega1s3xR
光圈变形 q sx1:Ny 1
1)粘结胶粘结力不适 L Jx
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2)光圈未稳定既下盘 Mk;j"Z D F
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) s#3{c @^3
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 ln7. >.F
克 服 方 法 XF6= xD
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 #$E
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2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 kE h# 0
3)刚盘定期进行检测和修正 _i#Z'4?2E
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 _u;
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麻点： L X'US-B.!
产 生 原 因 1;V5b+b
1) 精细磨、抛光时间不够 -d]z_
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2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 lL v0lf
3)有粗划痕抛断后的残迹 DS fK Ux&
4)方形或长方形细磨后塌角 Xs/hqIXB
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 EC0auB7G
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 P.0-(
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 0a5P@;" a
克 服 方 法 ';%g^!lM
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1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 gUcE,L
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 =k
z;CS+
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 FKP^f\! M
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 b;{C1aa>}
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 Df9}YI ;?
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 " 7DPsPs
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
