抛光常见疵病产生原因及克服方法 $VWe o#b
印迹 I:6N?lD4}0
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 &"D *
2)玻璃化学稳定性不好
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3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 (J c} K
克 服 方 法 8"d0Su 4r
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 ~Rs_ep'+Q2
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 2"31k2H[
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 }y<p_dZI
光圈变形 %J*z!Fe8s
1)粘结胶粘结力不适 =j%B`cJ66_
2)光圈未稳定既下盘 0!WF,)/T7i
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形)
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4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 '#~$Od4&=
克 服 方 法 QZcdfJck=+
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 'A0.(a5
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 [dm&I#m=
3)刚盘定期进行检测和修正 !. \EU*)1
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 L* k[Vc
麻点： s>=DfE-;"
产 生 原 因 SZO$#
1) 精细磨、抛光时间不够 7H$0NMP
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 Eei"baw/
3)有粗划痕抛断后的残迹 ff.(X!
4)方形或长方形细磨后塌角 /az}<r8
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 AT){OQF8&
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 V3%"z
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 + .Pv:7gh
克 服 方 法 K> =KsG
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 q= NI}k
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 \;al@yC=T
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 ~U] "dbQ
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 n#jBqr&!M
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 =o N(1k^
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 +D[|Mi
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
