抛光常见疵病产生原因及克服方法 0CRk&_ht
印迹 <',bqsg[
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 0|_d{/VK4
2)玻璃化学稳定性不好 j #)K/`
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 >0qe*4n|M
克 服 方 法 ]pP [0 S
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 DG"Z: ^`*
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 O<?z\yBtS^
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 iSxuor ^;
光圈变形 iZ-"l3) D
1)粘结胶粘结力不适 " tUF,G (<
2)光圈未稳定既下盘 <:U P
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) 9n[ovX 7n!
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 H '(Ky
克 服 方 法 :Pf2oQ
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 Sx3R 2-!Z
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 )~ l`%+
3)刚盘定期进行检测和修正 CA{(x(W\:
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 ^w|apI~HSE
麻点： 41V}6+$g
产 生 原 因 s5'So@L8
1) 精细磨、抛光时间不够 Fxr$j\bm
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 2{o
e J
3)有粗划痕抛断后的残迹 i5 F9*
4)方形或长方形细磨后塌角 d]6#pSE
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 {)d{:&*K.
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 fer~NlX
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 J<'I.KZ\z
克 服 方 法 L4L[@tMPmY
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 yl[6 b1
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 wNgS0{}&`
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 _<i*{;kR6
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 w,QO!)j!
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 .;xt{kK
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 uY6| LTK&x
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
