抛光常见疵病产生原因及克服方法 :[#HP66[O5
印迹 5 ]:fkx
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 &"BmCDOq
2)玻璃化学稳定性不好 R{NmWj['Mg
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 4};iL)
克 服 方 法 {oy(08 `6
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 <8|vj 2d2
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 >(ku*
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 eG72=l)Mz
光圈变形 y-cRqIM
1)粘结胶粘结力不适 /i"vEI
2)光圈未稳定既下盘 KXL]Qw FN
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) TW(rK&
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 )a .w4dH
克 服 方 法 #.$p7]
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 -Mb nY s)
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 -_[n2\|we)
3)刚盘定期进行检测和修正 tbJB 0T|G
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 b7E= u0
麻点： J_
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产 生 原 因 oJ ,t]e*q=
1) 精细磨、抛光时间不够 eh2 w7 @7Q
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 :J`:Q3@
3)有粗划痕抛断后的残迹 lsCD%P
4)方形或长方形细磨后塌角 H^_[nL
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 7G.IGXK$
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 g05:A0X#
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 kLU$8L
克 服 方 法 1@" e eR
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 T3u %V_
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 51;V#@CsQ
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 EjV,&7o)
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 M&Sjo' ( .
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 PEW^Vl-6q
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 v
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7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
