抛光常见疵病产生原因及克服方法 `2s!%/
印迹 nM
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1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 kSQ8kU_w+
2)玻璃化学稳定性不好 wl
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3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 a|aVc'j
克 服 方 法 ~4S$+* '8
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 K2x[ApS#
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 C| (A/b
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 I2ek `t]
光圈变形 Y?Vb gOM)
1)粘结胶粘结力不适 ) *,/L <
2)光圈未稳定既下盘 &1xCPKIr
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) T(4d5 fY
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 K"} fD;3
克 服 方 法 OZ,kz2SF#
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 DX>a0-Xj
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间
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3)刚盘定期进行检测和修正 KhCP9(A=Qo
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 XH:*J+$O
麻点：
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产 生 原 因 OW:*qY c;:
1) 精细磨、抛光时间不够
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2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 h6
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3)有粗划痕抛断后的残迹 ;t`
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4)方形或长方形细磨后塌角 = P- &dN
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 INZVe(z
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ,g`%+s7 u
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 T5BZD
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克 服 方 法 S)rZE*~2
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够
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2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 & c`-/8c
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 ^
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4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 "q4tvcK.
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 BG{f)2F\
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 ! ,J#
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7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
