抛光常见疵病产生原因及克服方法 <7 X6UL Q
印迹 'H|=]n0
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 o0`|r+E\
2)玻璃化学稳定性不好 1(*Pa
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 c.JMeh
克 服 方 法 WY`hNT6M
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 r_?i l]l
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 ~L3]Wa.
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 15L0B5(3
光圈变形 $=rLs)
1)粘结胶粘结力不适 |-!
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2)光圈未稳定既下盘 $ Eh8s(
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) tiHP? N U
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 4Px
克 服 方 法 <RPy
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 $% 5f
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 LI/;`Y=
3)刚盘定期进行检测和修正 dLnu\bSF
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 X GhV?
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麻点： l;'#!hC)
产 生 原 因 /:o (Ghc?
1) 精细磨、抛光时间不够 >~)IsQ*%
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 RbA.%~jjx*
3)有粗划痕抛断后的残迹 Or9`E(
4)方形或长方形细磨后塌角 x O gUX6n
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 @b, &b6V
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 r@ 9qjva
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 :!nBTw
克 服 方 法 KfkE'_ F
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 %J%ZoptY:
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 zJCm0HLJ
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 rh%-va9
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 Mq [|w2.
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 2B<0|EGtzw
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 SK&? s`
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
