抛光常见疵病产生原因及克服方法 *CHX
印迹 h 9W^[ 6
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 '2^Q1{ :\
2)玻璃化学稳定性不好 #Mw8^FST
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 2jhxQL
克 服 方 法 cYt!n5w~W
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 1&Z j
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 ]z9=}=If
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 cExS7~*
光圈变形 Th%Sjgs n
1)粘结胶粘结力不适 \)|hogI|f
2)光圈未稳定既下盘 P";'jVcR
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) '! $Rw"K.
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 #;nYg?d=
克 服 方 法 yz8jw:d^-
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 o " #\
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2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 aw42oLk
3)刚盘定期进行检测和修正 E?0%Z&1h
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 0"bcdG<}
麻点： ?5
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产 生 原 因 ,nm*q#R,0
1) 精细磨、抛光时间不够 ~Jz6O U*z
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 8-77d^cprR
3)有粗划痕抛断后的残迹 H A>OkA/
4)方形或长方形细磨后塌角 HC,Se.VYS
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 D >tR-
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 :20W\P<O!A
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 Jg| XH
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克 服 方 法 ,01"S WE
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 0 :Ol7
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 ) hfpwdQ
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 "a U
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4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 `+Q%oj#FF
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 N//K Ph
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 t{vJM!kdlQ
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
