抛光常见疵病产生原因及克服方法 w]{c*4 o
印迹 1Z @sh>X|
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 AguE)I&m
2)玻璃化学稳定性不好 Bps%>P~.
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 P E4
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克 服 方 法 V@#oQi*
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 Hcu!bOQ
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 Wtc ib-
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 8{2
光圈变形 &s vg<UZ
1)粘结胶粘结力不适 2J&~b 8 :
2)光圈未稳定既下盘 x0(bM g>7
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) 2*z~ 'i
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 Xi[]8o
克 服 方 法 E(|A"=\
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 dVEs^ZtI
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 $">j~! '
3)刚盘定期进行检测和修正 f?)7MR=
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 Fw\Z[nh
麻点： R2sG'<0B0
产 生 原 因 Zdqm|_ R[
1) 精细磨、抛光时间不够 b2UDP W
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 C`g
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3)有粗划痕抛断后的残迹 eQu(3 sYb
4)方形或长方形细磨后塌角 L4m Vk
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 jL"V0M]c
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 -GPJ,S V>
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 yef\Y3X
克 服 方 法
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1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 C: t>u..
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 h'
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3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 /)Cfm1$ic
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 nWIZ0Nde'
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 nJN -U+)u
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 W{"s B:E
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
