光学工程仿真软件-FRED操作手册 全新改版(上) 1uV_C[: Q^MB%L;D 本书中存在的不足之处,敬请读者不吝指正。
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作者
讯技光电科技有限公司
4#2iL+
目 录 :WA o{|& i $I|JJJ 第一章 FRED概述 1
87<y_P@{ 1.1 WHAT IS FRED? 1
z(\H.P# 1.2 FRED与传统软件之间有什么不同? 1
MqoQs{x 1.3 FRED名词术语 2
<*(~x esPS 1.4 FRED用户界面 7
/mD KQ< 第二章
光源 16
n;Iey[7_E` 2.1 简易光源 16
RTY$oUqlZ 2.1.1 简易光源的建立 16
!+hX$_RT 2.1.2 复杂光源(简易光源对话框内) 17
_a<PUdP 2.1.3 准直光源(平面波) 19
GV[%P 2.1.4
激光二极管光束(像散高斯) 22
B. P64"w 2.1.5 激光光束(TEM00模式) 24
-|)[s[T~m 2.1.6 点光源 27
FJ U)AjS~ 2.1.7 M2高斯光束 28
=dA T^e## 2.1.8 相干光 32
o~4n8 2.2 复杂光源 49
akCl05YW 2.2.1复杂光源的创建与编辑 49
f2yv7t
T 2.2.2创建新的与编辑/查看复杂光源对话框 51
zi-+@9T 2.2.3光源位置类型 51
cF(9[8c{ 2.2.3.1位图 51
v Q_ B2#U: 2.2.3.2格子平面(创建新的与编辑/查看复杂光源对话框) 54
.9^;? Ts 2.2.3.3六角形平面 55
$s]@%6f 2.2.3.4 字符串光源 56
+]
5a(/m.~ 2.2.3.5光源文件的输入 58
\3LD^[qi 2.2.3.6随机平面 60
SD.ze(P 2.2.3.6随机字符串 60
|@ldXuYb 2.2.3.7随机表面 62
aSF&^/j 2.2.3.8随机体积 63
RDqC$Gu 2.2.3.9 用户定义的
光线 65
O,OGq0c 2.2.4方向类型 68
c''O+,L1+ 2.2.4.1像散焦距 68
WX=+\`NyJ( 2.2.4.2像散高斯光束 69
A.h?#%TLL 2.2.4.3焦点到/来自一点 70
8U(a&G6gn 2.2.4.4 多光源的角(平面波) 72
l:|Fs=\ 2.2.4.5 多光源的位置 73
GecXM Aa:2 2.2.4.6 角度范围内的随机方向(光线) 74
&&y@/<t 2.2.4.7 球体内的随机方向(光线) 76
{(q Un 2.2.4.8 单向 77
V3+%KkN 2.2.4.9 角度空间内构成六角形格子点的方向(光线) 79
Q-au)R, 2.2.4.10 构成线性格子点的方向(光线) 80
HkV/+ {;S~ 2.2.4.11 激光二极管光束方向 81
|n|2)hC 2.2.4.12根据强度分布的随机光线方向 82
VuBp$H(U 2.2.4.13 M2激光束方向 83
785iY865 2.3 光源标签 84
-qEr-[z 2.3.1 相干 84
l2v}PALs 2.3.2 位置/坐标 86
C`#N
Q*O 2.3.3 偏振 88
WcJ{}V9 2.3.4 位置/方向 89
Grub1=6l 2.3.5 功率 93
vOj$-A--qU 2.3.6 视觉效果 94
Hb$q}1+y 2.3.7 波长 96
<qy+@t 2.4 切趾光源 99
:_H88/?RR 2.4.1 位置切趾 99
DVS7N_cx2o 2.4.1.1振幅/相位掩模板 99
jCl[!L5/1 2.4.1.1.2 掩膜板大小 101
x!jhWX 2.4.1.2 高斯切趾 101
A^Zs?<C- 2.4.1.3 R^n距离 104
.)GVb<w 2.4.1.4均匀 106
"D/ fB%h` 2.4.2 方向切趾 108
fE:2MW!)* 2.4.2.1 cos^n 或 sin^n 108
950b9Vn& 2.4.2.2逆朗伯 110
Rq9gtx8,= 2.4.2.3高斯 113
:ox CF0Y 2.4.2.4郎伯 115
M@K[i*e 2.4.2.5取样(球形角) 118
NAU<?q<) 2.4.2.6均匀 121
p~b$+8#+ 2.4.3光线导入选项 123
Ii8jY_ 2.4.4数字化光源光谱 123
Zk[#BUA 2.4.5部分相干 125
\'KzSkC8 2.4.6 场重新取样 125
? c+; 2.4.7场重新取样(图形用户界面) 126
6GN'rVr!Z 第三章 几何体议题与例子 128
')aYkO{%sb 3.1 创建新曲面 129
{HU48v"W 3.1.1 编辑/查看曲面 132
=3:ltI.'*I 3.1.2 应用孔径,裁剪体与裁剪对象 134
PA/6l"-`3 3.1.2.1裁剪体与裁剪对象 137
1%+^SR72 3.1.2.2裁剪逻辑操作 139
DI RCP=5 3.1.3 应用位置 149
pi{ahuI#_o 3.1.4 应用胶合 152
3IkG*enI 3.1.5 应用光栅 154
L }mhMxOTi 3.1.6 曲面类型 161
40E[cGz$* 3.1.7 应用可视化属性 164
a=O!\J 3.1.8 应用曲面变形 166
Pla EI p 3.1.9 材料 171
GND[f} 3.1.10 散射特性 173
@RP|?Xc{? 3.1.11 辅助数据 180
3{l"E(qqZ 3.2 ASAP™导入 180
4Uiqi{} 3.3 CAD导入 182
r:cUAe7# 3.4创建几何实体 186
_6' g]4 3.4.1
透镜导入 187
'FhnSNT(4= 3.4.2 透镜及反射镜建立 190
xpk|?/6 3.4.3 从目录中插入棱镜 193
I}WJ0}R 3.4.4 棱镜 196
+=_Pl7? 3.4.5 元件基元 200
;GAYcVB 3.4.6 布尔运算 207
}NXESZYoi 3.5 新自定义元件 211
&g!/@*[Nhh 3.6 元件与自定义元件的比较 215
9PAp*`J@kr 3.7 方向余弦 216
1dcy+ !> 3.8 IGES对象类型标号和标题 217
'w2;oO 第四章 曲线与基于曲线的曲面 225
f-<6T 4.1 曲线 226
UU;:x"4 4.2 曲面类型 234
EHZSM5hu 4.3 复杂曲面孔径:孔径曲线集合 239
%8Z,t+' 4.4 曲线可视化 256
`{Jb{L@f 第五章 分析面及其实例 257
kXr%73s 5.1 创建分析平面 258
?>Aff`dHY 5.2 光线选择标准 267
Sx2j~(pOr 5.3 粘附分析平面 271
Q
Y'-] 5.4 探测器实体 274
n1Jz49[r 5.5 分析面尺寸 279
UVK"%kW#( 第六章 材料设定与定义 280
g&>Hy!v, 6.1 材料定义 281
l+6(|"md 6.2 材料类型 284
+mQSlEo 6.3 编辑/创建新取样材料 287
Ub,unU 6.4 编辑/创建新模型材料 295
lNb\^b 6.5 添加体散射 300
kR|y0V {K* 6.5.1 Henyey-Greenstein散射 301
d3GK.8y_z 6.5.2 脚本体散射 303
lND[anB! 6.6 材料吸收特性 305
+b+sQ<w?. 6.7 光线追迹胶合层 308
fR%8?6 第七章 镀膜 310
0, /x# 7.1 新建镀膜 311
.a*$WGb 7.2 应用光线控制和镀膜 318
<Xx\F56zp 7.3 编辑或创建新的一般取样镀膜 321
l i-YkaP 7.4 编辑或创建新的薄膜层镀膜 330
wY#mL1dF 7.5 未镀膜(裸露)曲面 338
AX+d? M 7.6 编辑或创建新的偏光器/波片镀膜 342
>9`ep7 7.7 取样镀膜(波长、R、T) 354
WFP\;(YV 7.8 1/4波单层镀膜 357
lG9ARRy(= 7.9 脚本镀膜 358
4:$>,D\ 8.1新建散射属性 360
jhv1 D'>6 8.2编辑/创建新散射模型 371
Z<W6Avr 8.2.1散射模型 – ABg 371
+`8)U 3u0 8.2.2散射模型 – 平滑黑色涂料 376
>nQyF 8.2.3散射模型 – Harvey-Shack 381
mx~sxYa 8.2.4散射模型 – 朗伯型 388
k5D'RD 8.2.5散射模型 – Mie 393
KU,w9<~i( 8.2.6散射模型 – 列表数据 404
$x;h[,y
8.2.7散射模型 – K-系数 409
%%6('wi 8.2.8散射模型 – Phong 413
or}*tSKX 8.2.9散射模型 – 薄片PSD 419
L?x?+HPY. 8.2.10散射模型 – 漫反射二项式 422
aUK4{F ; 8.2.11散射模型 – 漫反射多项式 424
e6lOmgHn5 8.2.12散射模型 – 扩展 Harvey Shack 426
zF&UdS3 8.2.13散射模型 – 脚本散射 426
*GP_ut% 8.2.14散射模型 – 扩展脚本散射 430
P*`xiTA 第九章 光线追迹属性 432
Q/)ok$A& 9.1 光线追迹控制 433
on?/tHys 9.2 默认光线追迹控制 440
,<b|@1\k 9.2.1默认光线追迹控制 – 允许全部 440
-P>=WZu 9.2.2默认光线追迹控制 – 暂停全部 444
Hs=N0Sk]j 9.2.3默认光线追迹控制 – 反射光谱 448
&pjV4m|j< 9.2.4默认光线追迹控制 –透射光谱 452
*]R0z|MW 9.3 高级光线追迹 456
Y&