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在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。 {E|$8)58i Ml-6OvQ7g
iDqoa\ A|{(/G2* 建模任务 DkDmE 7WzxA=*#
5]:U9ts# 结构和材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) +9sQZB# ( dioGAai' 某一位置的Talbot图样 [v!f<zSQK G$('-3@i`w
@-`*m+$U6 'PW5ux@`< 某一位置的Talbot图样 W ]8QM1$ ('+d.F[109
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- 用特殊介质构造光栅结构 [用例] lr&a;aZp - 超颖光栅构建 – 示例讨论 [用例] gI|~|-' w_V P
J 通过参数运行计算不同位置的强度 Qn2&nD%zi - 参数运行文件的使用 [用例] YtLt*Ig% M X]n&
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