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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-04-25
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 j0; ~2W#G*  
    PD0&ep1h7G  
    '%[ Y  
    场景 l X+~;94  
    2RX]~}  
    (!5Ta7X  
    3U{ mC}F  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ^ WO3,  
    e>Z&0lV:  
    系统构建块
    T3{~f  
    $5JeN{B  
    B\c_GXUw  
    <lf692.3  
    组件求解器 O?Bf (y  
    K_)~&Cu*'  
    F8?2+w@P  
    Mu[lk=jC  
    M8X6!"B$Y  
    .b3h?R*&  
    系统构建块 Ul_Zn  
    5+M,X kg  
    : x&R'wX-  
    3LLG#l )8  
    总结 =6Ok4Z  
    Za{O9Qc?D|  
    ,Zn6T"[$  
    vF$( Y/  
    几何光学仿真 {S{%KkAV  
    通过光线追迹 h8`On/Ur_8  
    @Z ==B%`  
    结果:光线追迹 9m)$^U>oz  
    ?K[Y"*y2  
    A4,{ep'Z!  
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    快速物理光学仿真 GLtWo+g0  
    通过场追迹 wkx9@?2*  
    DlUKhbo$g  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Xs052c|s  
    f X[xZGV,  
    Ux=~-}<-w  
    {O2=K#J  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 @\y{q;  
     U=~?ca  
    @FN|=?8%  
    (2# Xa,pb  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ]M*`Y[5"  
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    e' l9  
    Tx PFl7,r  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ^\ x'4!W  
    + kKanm[!v  
    GfELL `yz  
    wPM>-F  
    总结 6AJk6 W^Z  
    Q^f{H.  
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