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    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

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    离线infotek
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-04-02
    在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示: yaD_c;  
    ZFNn(n  
    g* & |Eq/  
    <@puWm[p  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。 )* \N[zm  
    #OT8_D  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。 MY]<^/Q  
    !iO%?nW;  
    相位分布如下图所示: ".Q``d&X  
    w#!^wN  
    i:coNK)4  
    C=&rPUX{  
    相移区域的影响清晰可见,导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差: 25zmde~ w  
    1K`7  
    AJ0 ;wx  
     
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