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1. 描述 y6|&bJ @ ;eznONNF 通过该案例,介绍如何配置光源来模拟在一个平面上的不同辐射。 JO:40V?op 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。 OO..
Y 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义: U88-K1G — 预设公式 ,Mf@I5? — 测量数据 !br0s(| — 用户自定义的公式 =F2e*?a3 光源没有输入且只有一个输出通道。 V#;6<H" VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。 =/@c9QaVB 4&IBNc,sn 2. 光路图中的光源 ' bio:1 ,^MA,"8 FHVZ/ e /esSM~*H 3. 光源-基本参数 kN9pl^2 = :rR%L!a unqX<6hu MR$Bl"d +:4J~Cuf 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。 ,?;q$Xoi 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。 (,eH*/~/ 用户可以直接定义光源后的介质。 w=Xil 支持以下附加配置: hv
18V>8 — 场尺寸 Uv,_VS( — 场形状(矩形,椭圆) T$/6qZew — 边缘宽度(切趾) 0R~{|RHM :_YpSw<Q 4. 光源-场尺寸和形状 T69'ta32V hPt(7E2ke~ 大多数分析的光分布都是无限扩展的 wXf_2qB9 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。 K1O0/2O VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念, d_BO&k |