[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ MJ`3ta  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 R\|lt)h  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， A{eLl  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 o Y}]UB>  

ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ Hs?e0Z=N  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 ]M/9#mD9~  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， A[IL H_w  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 
/-bF$)vN  
 (2021-12-16 11:58)  " 96yp4v@  

W?yd#j  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… yR{x}Db
G  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 T=hhoGn  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 C%*k.$#r!  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… =^H4Yck/5  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 8M@
BG8  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 As+t#
#gN  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)  qfcYE=  

g$dsd^{O7  
好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)  Fd*8N8Pi  

klUQkz |<a  
是的。