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摘要 DjHp+TyT dDtFx2(R VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 7Kf}O6nE 6EJVD!#[K 61_f3S(u xx8U$,Ng 介质目录中的斜光栅介质 UG2w 1xqHw N4UM82N $-vo}k%M C!%:o/ 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 |n6Eg9 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 bJ3(ckhq j@1)K3Hga 斜光栅介质的编辑对话框 QH@>icAb $'"8QOnJ?k ~}% ~oT ^O6*e]C$ 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 Sm|( 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 oq;'eM1,. 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 RL}KAGK 斜光栅介质的编辑对话框 Q M1F?F $.K?N@(W Lz4ehWntO M{N(~ql 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 HGDVOJq 以下参数可用: .36^[Jsz": - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) HJhH-\{@ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) :w-`PYJ%G - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) KN[d!}W: - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) |4b)>8TL/ ?Zcj}e.r 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 w+AuMc $L}aQlA1JM 斜光栅介质的编辑对话框 `M@Ak2gcR+ ..KwTf G<qIY&D' \7Cg,Xn 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 O\beKBT; 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 F 3RB jqcz\n d 斜光栅介质的编辑对话框 cFZCf8:zB i~yX tya SUdm 0y RKkGITDk K|^wc$ 首先,必须选择涂层材料。 Ruaur] 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 sbsu(Sz+ 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 .BZVX=x qfL-r,XS`F 斜光栅的编辑对话框 t#~?{i@m #hxyOq, ff cLuXa |. C1|J'Z w:ULi3 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 FJS'G^ 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 XGs^rIf KSqTY>%fnv 堆栈使用的评论 UpUp8%fCU t#b0H)
?y7w} W M] EsS^/X *^XbDg9 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 /Jlv"R1, 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 &a)vdlZSE= 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 "S!3m9_# 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 UQ8bN I7 JWHSnu! 斜光栅介质的采样配置 :pC;`iQ Vb4;-?s_ 斜光栅介质采样 )iLM]m 4\2V9F{s dbF M,"^ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 _
Jc2&(; 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 vK$^y^ 在右边,显示了介质的预览。 wD9a#AgEd 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 \C|cp|A*& #Ob]]!y mN}7H:, IB$7`7 采样斜光栅#1 (Wj2?k/] Dz&+PES_k }KB[B s3 QEi^~ 采样斜光栅#2 trYTs,KV yI8tH! d ,F5:w& _j ;3-m 采样斜光栅#3 v,1F--v /9 hR E_:QSy5G f`P9ku#j} 采样斜光栅#4 C7qYiSv
9f+RAN( D<):ZfUbI ,0?!ov| 文档信息 >L>+2z ;#QhQx bXdY\&fE m4/er539T T@48 qg QQ:2987619807 SI-X[xf
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