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摘要 H<QT3RF2 '(dz"PL. VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 gd0Vp Xf' Q7g>4GZC 6:]*c[7 ;/0 Q1- 介质目录中的斜光栅介质 )
/v6l }=v)Js [2dn\z28 oX4q`rt 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 /l{&iLz[ 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 e4G4GZH8 VOr 1 斜光栅介质的编辑对话框 j+^oz'q 8kbY+W%n #_B-4sm !sRngXCXk? 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 Iu{kPyx 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 jn:NYJv 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 T<I=%P) 斜光栅介质的编辑对话框 jM&r{^( 2>\v*adG 5o/&T"]@ ~h"/Tce 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 !bC+TYsU 以下参数可用: kvh&d| - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) $46{<4. - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) ]7Fs$y. - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) ~Aq5XI%i - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) 4HAp{a1 .@"q$\ 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 (n1Bh~R^ 0oh]61gC 斜光栅介质的编辑对话框 <F
)_!0C S2>c#BQ @VN&t:/ l #XnPsU<J 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 bT6sb#"W 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 cD4
kC>P* v?c 0[+? 斜光栅介质的编辑对话框 ]?h`:,] [DHoGy,P "Pl9 nE O'GG Ti]e \]9.zlB 首先,必须选择涂层材料。 &3Zy|p4V< 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 azP+GM=i7 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 7n o5b]
\ WU4U Zpz 斜光栅的编辑对话框 n}mR~YqD < pTTo Eh|. =&dW(uyzY $^ 'aCU0C 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 =V97;kq+v 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 1ZJQs6 =op%8NJf 堆栈使用的评论 hSGb-$~F q4UA]+-* Sb".]>^ W2;N<[wa<u GFk1/ F 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 O|cu.u| 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 65,(4Udz! 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 +fKtG]$ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 >%Ee#m INSkgOo 斜光栅介质的采样配置 P%Ay3cR+E f-2$
L 斜光栅介质采样 %b?$@H-Re % p?brc !}M, 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 mgZf3?,) 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 7:NmCpgL! 在右边,显示了介质的预览。 "tS'b+SJ-S 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ?y XAu0 /q\_&@ Wk4.%tpeO7 iP3Z 采样斜光栅#1 vQ@2FZzu> <uP^-bv;( DZ
^1s~ rAQF9O[ 采样斜光栅#2 W&"|}Pi/ t j Vh^ n,M)oo1G MVv1.6c7Y 采样斜光栅#3 Q}A=jew Zt3}Z4d /DS?}I.*] O$!*%TL 采样斜光栅#4 C.!_]Pxs PWgDFL? ~:sE:9$z &ogt2<1W 文档信息 w8~K/>!f S(eQ{rSs IF
k *j)M] ;eB ~H[S/ QQ:2987619807 }UyQ# U
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