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    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-15
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： )*b dG'}  
    a-A>A_.  
     ^-*q  
    =J2cX`  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 gJ; *?Uq(  
     X\z `S##kj  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 f>*D@TrU  
     y4V~fg;  
    相位分布如下图所示： (9"w{pnlLc  
    'aWrjfDy:  
     JlM0]__v  
    k3pY3TA@w+  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： ],?rFK{O  
    w,6zbI/  
     pG|+\k/B  
    _SW_I{fjr  
     " h D6Z  
    QQ：2987619807 P,QI-,  
     
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