四场线上课程,你想听哪一场?《ASAP 光学系统杂散光分析与控制》 招生中
为了方便大家精确主攻学某一部分的光学杂散光的知识,武汉墨光为此开展不同时间段,不同内容课程,此次课程分为基础、散射、鬼像、衍射四场培训,感兴趣小伙伴可以根据自己的需求选择上课,以下是四场课程内容大纲:
第一场:基础(9月27日) 1. 杂散光术语; 2. 杂散光成因; 3. 杂散光影响、杂散光控制; 4. 杂散光分析、评价方法、分析软件对比; 5. ASAP 杂散光分析流程、步骤。 第二场:散射(10月13日) 1. 杂散光特性、散射模型; 2. 消光漆/表面处理; 3. 光学表面污染; 4. 散射特性测量仪对比、重点区域采样; 5. 散射特征测试介绍、PST 测试介绍 6. 杂散光计算器、扩展面源杂散光分析; 7. 练习1-找关键和被照表面; 8. 练习2-散射模型拟合。 第三场:鬼像(10月28日) 1.鬼像分析、光学设计中的杂散光控制; 2. 练习1-鬼像分析; 3. 练习2-重点区域位置和大小计算; 4. 练习3-杂散光路径分析; 5. 练习4-红外系统自身热辐射分析。 第四场:衍射(11月12日) 1. 衍射杂散光; 2. 辐射度学基础; 3. 练习1-孔径衍射; 4. 练习2-大角度衍射分析; 5. 练习3-日冕仪杂散光分析。 培训说明 四场培训都为线上直播培训,不同场次,不同内容课程培训内容作业练习跟踪,老师答疑每场培训结束后支持1个月录播回放观看 1. 培训方安装最新正版软件(仅限培训期间使用)。 2. 报名两场及以上者可以获得包邮赠送配套教材一本《杂散光抑制设计与分析》一本。 3. 为保证课程质量,课程均采用小班授课模式。 举办单位:武汉墨光科技有限公司 培训日期:第一场:2021年9月27日 (下午 14:00-17:00) 第二场:2021年10月13日 (下午 14:00-17:00) 第三场:2021年10月28日 (下午 14:00-17:00) 第四场:2021年11月12日 (下午 14:00-17:00) 扫描下方二维码报名 分享到:
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