切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 3698阅读
    • 1回复

    [分享]光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    5786
    光币
    23082
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-07-23
    关键词: 光学薄膜Macleod
    Essential Macleod是一套完整的光学薄膜分析与设计的软件包,它能在任一32位、64位微软窗口环境操作系统下运行(除了Windows RT), 并且具有真正的多文档操作界面;它能满足光学镀膜设计中的各种要求;既可以从头开始设计,也可以优化已有的设计;可以模拟设计生产中的误差,也可以导出薄膜的光学常数,是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。 ~Otq %MQ  
    CuaVb1r  
    模块:Core模块+5个附加模块 0at/c-K`  
    {3|t;ZHk  
    Core模块 @x*c1%wg  
    Z+*9#!?J  
    Macleod核心模块是软件的最低配置,包含设计编辑器,数据、目标编辑器,输入/输出,材料管理,性能计算,优化和综合,和其它软件或硬件的数据交换,导纳轨迹,电场,辅助设计等,是整个软件包的基本构架。 $njUXSQ;  
    AHD=<7Rs  
    Core模块功能 A=$04<nP8!  
    d`QN^)F0#  
    效能计算 Y>dF5&(kb  
    LK{*sHi$  
    Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外,也包括沉积密度、吸收,椭圆参数,超快参数 (群组延迟、群组延迟色散、三阶色散)和多光色散,也可以进行色彩计算。公差的计算是分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。 EEEh~6?-e  
    { }:#G  
    颜色计算 .<->C?#  
    Gj1&tjK  
    颜色计算包括色度坐标、显色指数、色纯度、主导波长、相对色温。图形包括色度坐标图、色调、用户自定义图。包括CIE 1931 和 1964 配色函数在内的许多标准光源选择是预先定义好的,而用户可以定制你所需要的参数的其它参数。可以根据导入的透射及反射数据计算作为波长函数的颜色参数,也可以作为目标进行优化。 GSoX<*i  
    UE8kpa)cQ  
    设计和分析工具 e),q0%5  
    X:A^<L ~  
    包括导纳图,电场分布,等效折射率,吸收分布,应力,光的散射、特性包络、消偏振边带滤波器设计和诱导透过率。 M,j U}yD3  
    +Zb;Vn4  
    提取工具 $iN"9N%l  
    216RiSr*  
    n & k 提取工具提供了由量测测试薄膜的反射、透射频谱数据以决定薄膜或基底n 与k 的方法。 8V~k5#&Ow  
    Lm iOhx  
    反演工程 35h 8O,Y  
    [8Y:65  
    主要采用Simplex 局部优化方法,根据已镀膜的设计结构和光谱测试数据(至少一种),来确定其真实膜系结构及其与设计的差别。 :N:yLd} &  
    S(k3 `;K  
    公差 =rMUov h  
    pd:WEI ,  
    Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度,可以比较不同的设计以挑选出最优者。 piJu+tUy  
    r)Ma3FL0;  
    细化与合成 G0CW}e@)  
    [u =+3b  
    Essential Macleod提供了6个优化和2个合成工具,膜层可以锁定或关联(膜层关联是更先进的分组形式可以把不连续的膜层关联在一起优化),堆积密度包含在细化工具下的简单下降法里面(可对折射率优化)。优化过程可以加入如选择的膜层的总厚度等不同的限制条件。Optimac和needle Synthesis方法可以优化多层膜,可加入多种材料合成优化。Context允许使用替代材料优化。 8+~ >E  
    6gL #C&  
    图表 S.mG?zbw  
    #Vnkvvv  
    Essential Macleod包括标准图片、动态图(参数的变化效应可立即看到)、三维图。 5GI,o|[s6  
    pI1-cV,`  
    导入与导出 x!?u^  
    $POu\TO  
    剪贴板支持与其它应用程序的导入与导出数据,还可以导出数据到光学系统软件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。 WltQ63u  
    qFicBpB  
    Runsheet模块 {dhXIs  
    1rNzJ;'  
    这个工具可设计镀膜制程,包含机器配置编辑器以及跑单生成器。 WQx?[tW(U  
    B?OFe'*  
    机器配置编辑器 r7RIRg_  
    ;@0;pY  
    机器配置中贮存了特定镀膜机的详细设置,监控系统,入射角,材料,监控芯片,加工因子(包含随光源损耗变化的动态加工因子)。 /}((l%UE.  
    sG(~^hJ_  
    Runsheet _F4Ii-6  
    MS nG3]{z  
    使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置,进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外,还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 f- K+]aZ)  
    \Q {m9fE  
    •对反射、背向反射和透射监控计算光学信号 I )~GZ  
    •当膜层沉积时,动态加工因子(Dynamic Tooling Factors)可以不同 NyaQI<5D  
    •使用偏移和放大控制可以使信号数据缩小或放大到用户自定义范围 U2ohHJ``  
    •对每一膜层,监控波长、带宽、监控光谱、晶控或光控都可以用户自定义 CLxynZ \;  
    •在镀膜的任何阶段,监控芯片可以更换 3RigzT3  
    •多种配套的格式输出 a Fl;BhM  
    •提供图片和表格的监测数据可以输出到用户自定义报告格式 -$t{>gO#Y  
    '<gI8W</  
    Simulator模块 k)i3   
    kq?Ms|h  
    对于公差问题, Simulator 通过蒙特卡罗(Monte Carlo)法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划, Simulator 可模拟薄膜淀积控制,引入随机和系统效应,例如信号噪声,加工因子的变动,封装密度误差等等,以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 <3oWEm  
    aacpM[{f  
    Monitorlink模块 V"[g.%%Y  
    bc7/V#W  
    Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接,而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 <h!_>:2L  
    VStack 模块 EW}Bzh>b  
    R &n Pj~  
    VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时,初始为p- 偏振态的光线最终会以p - 偏振态从系统出射。同理,原本是s - 偏振态光也会以p - 偏振态出射,我们称此为偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 L s G\OG  
    @Y?#Sl*  
    Function模块 l.(v^3:X  
    _1!7V3|^  
    函数扩展功能无macleod计算中的限制,Function有两个主要工具:第一是简单的宏语言可在软件表格中运行,另一个是强大的Basic脚本语言。 .nO\kgoK  
    fIM,lt  
    宏语言可以保存和调用。Operation可以使阵列数据作为变量并可进行所有必要的插值。Operations可以创建黑体辐射光源,对于柯西材料模型可提取n和K数据,很容易的计算如平均或峰值特性等庞大计算量。其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 W1WYej"  
    9,c(y sv"  
    O 5!7'RZ  
    |e=,oV"  
    脚本是比Operations功能强大但更复杂的的脚本编辑。脚本可以调用Macleod作为物的实体,并运行它的命令可以插入到工具栏中,存在两个强大的编辑器,一个是可以使用BASIC脚本编辑器,另一个允许是允许用户与程序包内置的对话框交互的脚本编辑器。 c\/=iVw,  
    y>S.?H:P  
    -Sq z5lo  
    脚本也兼容OLE 的外部程序如Microsoft Word软件。软件提供了许多预先编辑好的脚本,如创建新的光源,如对不同的模型创建纳米复合材料,如OLED特性计算,膜层表面3维数据收集,非均匀表面效应的计算。 ?)/#+[xa  
    ;Y)w@bNt@  
    BfXgh'Z~  
    DWDM Assistant模块 #`~C)=-  
    Y`KqEjsC*  
    在多腔滤波器设计中,特别是针对密集波分复用,用DWDM 助手可以避免单调的重复过程。DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片,以满足用户的不同规格,设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间、扰动特性等等规范排序。 _PPy44r2  
    [RS|gem`  
    SbcS]H5Sk  
    通过扰动优化算法,增加只是由1/4 波长厚度的膜层组成的结构,减少通带中的脉动,使DWDM助手中使用的对称周期技术功能增强。一般来说,对给定要求的滤波器,有许多的设计都满足要求,但DWDM 助手可以按评价标准对设计结果进行排列。 QER?i;-wb  
    .4S.>~^7  
    f<GhkDPm>?  
    Upx G@b  
    XYQ/^SI!:  
    QQ:2987619807
     
    分享到
    离线930602010
    发帖
    45
    光币
    5
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 2022-04-10
    感谢   新人刚好需要