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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 :gXj( $  
    RA}PM?D/  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 .1;?#t]ZV  
    xS'So7:h  
    U,N4+F}FR  
    场景 (,>`\\  
     `S|gfJ  
     #,sJd^uI  
    W+vm!7wX0  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 $HRpG  
    +t f=  
    系统构建块     w}iflAnjq  
    %o-*~GQ@B  
      f!<mI8H  
    Rp#SqRy`  
    组件求解器 2mRso.Ah  
    v|e>zm <  
    Z6I!4K  
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    Z'E@sc 9  
    ()iJvf>@  
    系统构建块 f' eKX7R  
    D~<GVp5T  
     (/^&3xs9  
    DE[y&]/C{  
    总结 >z2 {D7  
    |R4](  
    xucV$[f  
    #Xc~3rg9  
    几何光学仿真 "H({kmR  
    通过光线追迹 |laq y`D  
     ^m~=<4eX  
    结果：光线追迹 z}5XLa^  
    rpvm].4  
     (HEjmQjE  
    ,?}TSJKC  
    快速物理光学仿真 0Bll6Rd  
    通过场追迹 wz ,woF|  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 }.Ug`7%G  
    ,yC~{ H  
     z w0p}  
    It4F;Ah  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 vO\CPb %/  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 |i|O9^*%  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Q5Wb)  
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    总结 p4/D%*G^`  
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    J[^-k!9M  
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    文件信息 6(eyUgnb  
    1PWDK1GI8  
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    QQ：2987619807 TG!sck4/-Q  
     
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