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高数值孔径(NA)物镜的聚焦分析
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高数值孔径(NA)物镜的聚焦分析
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发表于: 2021-03-04
1. 摘要
X(\RA.64
;o\wSHc
高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真
中考虑光的矢量性质至关重要。VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头
进行
光线
追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑
失对称现象。利用
相机
探测器
和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
\+\h<D-5
`UR.Rn/x
nj[6c
x@=7M'vr%
2. 建模任务
J,7\/O(`A
$&!U&uMt
eMwf'*#
:`K;0`C+
3. 概述
^BZdR<;
8 _J:Yg
21qhlkdc
示例
系统
包含了高数值
孔径
物镜
oS4ag
下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
tdm /U
R)=<q]Ms
+j,;g#d
fu/c)D6u*m
4. 光线追迹仿真
yT4|eHl
-]e@cevy
&}r932
首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
>7|37a
点击“Go!”。
I zT%Kq
随即获得3D光线追迹结果
So:89T
n!p&.Mt
s5.2gu|"%
T1E=<q4
然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
Z&%61jGK
点击“Go!”。
])`F$S
随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
5>HI/QG
h4/rw fp^
d={}a,3?
5. 场追迹仿真
SO)??kQ{U
4ZIXG,@mZJ
,RZktWW_
转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
iAN#TCwLT7
点击“Go!”。
K"#}R<k8:A
]mp.KvB
_ |; bh
U;(&!Ei
6. 场追迹结果(相机探测器)
a4wh-35/
}IV7dKzl
QMIXz[9w
上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
UX?_IgJh<"
下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
Jd |hwvwFe
Pw")|85
<AVpFy
7. 场追迹结果(电磁场探测器)
@*oi1_q
利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
O/Fzw^
JwO+Dd
N5_v}<CN
4avM:h
8.
文件
信息
gnv4.f:
u*M*WpY
(HTVSC%=
u$0>K,f
cIgF]My*D@
QQ:2987619807
' o5,P/6
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发表于: 2021-04-22
您好,请问为什么在Ey方向会有分量。我模拟了一下,发现Ey没有。
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