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    [分享]光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-02-23
    Essential Macleod是一套完整的光学薄膜分析与设计的软件包,它能在任一32位、64位微软窗口环境操作系统下运行(除了Windows RT), 并且具有真正的多文档操作界面;它能满足光学镀膜设计中的各种要求;既可以从头开始设计,也可以优化已有的设计;可以模拟设计生产中的误差,也可以导出薄膜的光学常数,是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。 %In A+5s`  
    p93r'&Q  
    模块:Core模块+5个附加模块 !Sh&3uy_qN  
    Cz\e w B  
    Core模块 t\~P:"  
    !sQY&*  
    Macleod核心模块是软件的最低配置,包含设计编辑器,数据、目标编辑器,输入/输出,材料管理,性能计算,优化和综合,和其它软件或硬件的数据交换,导纳轨迹,电场,辅助设计等,是整个软件包的基本构架。 S >X:ZYYC  
    75f"'nJ)  
    Core模块功能 wsZF;8ut  
    M/>7pZW  
    效能计算 s E2D#D  
    @"Fme-~  
    Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外,也包括沉积密度、吸收,椭圆参数,超快参数 (群组延迟、群组延迟色散、三阶色散)和多光色散,也可以进行色彩计算。公差的计算是分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。 ]6(N@RC  
    Zw5Ni Xj  
    颜色计算 :8=ikwQ  
    VM GS[qrG  
    颜色计算包括色度坐标、显色指数、色纯度、主导波长、相对色温。图形包括色度坐标图、色调、用户自定义图。包括CIE 1931 和 1964 配色函数在内的许多标准光源选择是预先定义好的,而用户可以定制你所需要的参数的其它参数。可以根据导入的透射及反射数据计算作为波长函数的颜色参数,也可以作为目标进行优化。 0WZ_7C?  
    fk6%XO  
    设计和分析工具 f_jo+z{-ik  
    "GMBjT8  
    包括导纳图,电场分布,等效折射率,吸收分布,应力,光的散射、特性包络、消偏振边带滤波器设计和诱导透过率。  *'.|9W  
    m? J0i>H  
    提取工具 dMf:h"7  
    ;qafT@ }C  
    n & k 提取工具提供了由量测测试薄膜的反射、透射频谱数据以决定薄膜或基底n 与k 的方法。 oTU!R ,  
    ~?4PBq  
    反演工程 ~dgDO:)  
    /YP{,#p  
    主要采用Simplex 局部优化方法,根据已镀膜的设计结构和光谱测试数据(至少一种),来确定其真实膜系结构及其与设计的差别。 , pDnRRJ!  
    qT{U(  
    公差 F\JM\{&F  
    nBjqTud  
    Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度,可以比较不同的设计以挑选出最优者。 vM*-D{  
    p Dx1z|@z  
    细化与合成 c }Ft^Il  
    w28o}$b`  
    Essential Macleod提供了6个优化和2个合成工具,膜层可以锁定或关联(膜层关联是更先进的分组形式可以把不连续的膜层关联在一起优化),堆积密度包含在细化工具下的简单下降法里面(可对折射率优化)。优化过程可以加入如选择的膜层的总厚度等不同的限制条件。Optimac和needle Synthesis方法可以优化多层膜,可加入多种材料合成优化。Context允许使用替代材料优化。 z1PBMSG  
    bf ]f=;.+  
    图表 2,$8icM  
    gPNZF\ r  
    Essential Macleod包括标准图片、动态图(参数的变化效应可立即看到)、三维图。 jaTh^L  
    r?+%?$  
    导入与导出 8ndYV>{f  
    BgurzS4-  
    剪贴板支持与其它应用程序的导入与导出数据,还可以导出数据到光学系统软件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。 :~b3^xhc^  
    Xb:;</  
    Runsheet模块 .b3Qfxc>  
    }iXDa?6%  
    这个工具可设计镀膜制程,包含机器配置编辑器以及跑单生成器。 iV5yJF{ZH  
    b3&zjjQ  
    机器配置编辑器 6}gls}[0{e  
    *xx'@e|<;  
    机器配置中贮存了特定镀膜机的详细设置,监控系统,入射角,材料,监控芯片,加工因子(包含随光源损耗变化的动态加工因子)。 @TLS<~  
    wa<MRt W=  
    Runsheet BWeA@v  
    _X^1IaL  
    使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置,进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外,还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 6Z>FTz_  
    @K\~O__  
    •对反射、背向反射和透射监控计算光学信号 f/ ?_  
    •当膜层沉积时,动态加工因子(Dynamic Tooling Factors)可以不同 O,+1<.;+  
    •使用偏移和放大控制可以使信号数据缩小或放大到用户自定义范围 j~2{lCT  
    •对每一膜层,监控波长、带宽、监控光谱、晶控或光控都可以用户自定义 j`JMeCG=Ee  
    •在镀膜的任何阶段,监控芯片可以更换 ?J%1#1L"/  
    •多种配套的格式输出 +6sy-<ZL:  
    •提供图片和表格的监测数据可以输出到用户自定义报告格式 [;r)9mh7  
    ;kFDMuuO  
    Simulator模块 T%.8 '9  
    ~ZmN44?R  
    对于公差问题, Simulator 通过蒙特卡罗(Monte Carlo)法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划, Simulator 可模拟薄膜淀积控制,引入随机和系统效应,例如信号噪声,加工因子的变动,封装密度误差等等,以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 #o=y?(  
    F|d\k Q  
    Monitorlink模块 i2@VB6]?  
    #+:9T /*>0  
    Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接,而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 h%o%fH&F!  
    VStack 模块 RHaI~jb  
    .GsV>H  
    VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时,初始为p- 偏振态的光线最终会以p - 偏振态从系统出射。同理,原本是s - 偏振态光也会以p - 偏振态出射,我们称此为偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 <Y*+|T+&d  
    (_niMQtF}  
    Function模块 8|):`u  
    k52/w)Ro,$  
    函数扩展功能无macleod计算中的限制,Function有两个主要工具:第一是简单的宏语言可在软件表格中运行,另一个是强大的Basic脚本语言。 8UW^"4  
    Y'c>:;JEe  
    宏语言可以保存和调用。Operation可以使阵列数据作为变量并可进行所有必要的插值。Operations可以创建黑体辐射光源,对于柯西材料模型可提取n和K数据,很容易的计算如平均或峰值特性等庞大计算量。其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 S'|,oUWDb  
    -MW_| MG  
    T m_bz&Q  
    T_i:}ul  
    脚本是比Operations功能强大但更复杂的的脚本编辑。脚本可以调用Macleod作为物的实体,并运行它的命令可以插入到工具栏中,存在两个强大的编辑器,一个是可以使用BASIC脚本编辑器,另一个允许是允许用户与程序包内置的对话框交互的脚本编辑器。 =[H;orMr  
    -(~.6WnhS  
    Vr)<\h  
    脚本也兼容OLE 的外部程序如Microsoft Word软件。软件提供了许多预先编辑好的脚本,如创建新的光源,如对不同的模型创建纳米复合材料,如OLED特性计算,膜层表面3维数据收集,非均匀表面效应的计算。 FK:;e lZ  
    cGtO +DE  
    -9%:ilX~  
    DWDM Assistant模块 ))R5(R  
    %j:]^vqFA  
    在多腔滤波器设计中,特别是针对密集波分复用,用DWDM 助手可以避免单调的重复过程。DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片,以满足用户的不同规格,设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间、扰动特性等等规范排序。 9 8j>1 "8  
    x^HGVWw_  
     tR}MrM  
    通过扰动优化算法,增加只是由1/4 波长厚度的膜层组成的结构,减少通带中的脉动,使DWDM助手中使用的对称周期技术功能增强。一般来说,对给定要求的滤波器,有许多的设计都满足要求,但DWDM 助手可以按评价标准对设计结果进行排列。 8J=? 5  
    "8c@sHk(w  
    oo,uO;0G  
    pf%=h |  
    试用索取QQ:939912426
     
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    离线f4213705
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    只看该作者 1楼 发表于: 2021-04-08
      好东西哦..发个软件啦